[发明专利]基于微孔薄膜的可调控X射线赝热光源有效
| 申请号: | 201110129449.4 | 申请日: | 2011-05-18 |
| 公开(公告)号: | CN102325421A | 公开(公告)日: | 2012-01-18 |
| 发明(设计)人: | 喻虹;韩申生;沈夏 | 申请(专利权)人: | 中国科学院上海光学精密机械研究所 |
| 主分类号: | H05G2/00 | 分类号: | H05G2/00 |
| 代理公司: | 上海新天专利代理有限公司 31213 | 代理人: | 张泽纯 |
| 地址: | 201800 *** | 国省代码: | 上海;31 |
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| 摘要: | 一种基于微孔薄膜的高亮度可调控X射线赝热光源,包括置于防辐射外壳中的单色X射线产生系统和赝热X射线调控腔,所述的单色X射线产生系统由振荡器、白光狭缝、双晶单色器同轴构成,所述的赝热X射线调控腔由可调狭缝组、微孔薄膜及其运动控制器、X射线出射窗同轴构成。由振荡器产生的热X射线经传播首先到达白光狭缝,限束后进入双晶单色器,经双晶单色器单色化后成为单色X射线,辐照到赝热X射线调控腔,在腔内依次经过固定于底盘上的可调狭缝组和微孔薄膜,在微孔薄膜运动控制器控制下,在微孔薄膜后方形成动态X射线散斑,由X射线出射窗出射,即为X射线赝热光场。本发明具有X光波段适用、高分辨率、高亮度、可调控和稳定性好的特点。 | ||
| 搜索关键词: | 基于 微孔 薄膜 调控 射线 光源 | ||
【主权项】:
一种基于微孔薄膜的可调控X射线赝热光源,包括置于防辐射外壳中的单色X射线产生系统和赝热X射线调控腔两部分,其特征在于:所述的单色X射线产生系统由同轴的振荡器、白光狭缝、双晶单色器构成,所述的赝热X射线调控腔由同轴的可调狭缝组、微孔薄膜及其运动控制器、X射线出射窗构成;所述的赝热X射线调控腔的微孔薄膜固定在微孔薄膜运动控制器上,所述的赝热X射线调控腔的微孔薄膜上具有大量随机分布的微孔,其孔径范围为0.1至1微米;可调狭缝组和微孔薄膜运动控制器固定于同一底盘上;所述的赝热X射线调控腔的可调狭缝组包括水平方向狭缝和垂直方向狭缝,狭缝宽度调节范围为0至20mm,狭缝组到微孔薄膜的距离随狭缝宽度的增大而增大。
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