[发明专利]基于微孔薄膜的可调控X射线赝热光源

权利要求书

1.一种基于微孔薄膜的可调控X射线赝热光源，包括置于防辐射外壳中的单色X射线产生系统和赝热X射线调控腔两部分，其特征在于：

所述的单色X射线产生系统由同轴的振荡器、白光狭缝、双晶单色器构成，所述的赝热X射线调控腔由同轴的可调狭缝组、微孔薄膜及其运动控制器、X射线出射窗构成；

所述的赝热X射线调控腔的微孔薄膜固定在微孔薄膜运动控制器上，所述的赝热X射线调控腔的微孔薄膜上具有大量随机分布的微孔，其孔径范围为0.1至1微米；可调狭缝组和微孔薄膜运动控制器固定于同一底盘上；

所述的赝热X射线调控腔的可调狭缝组包括水平方向狭缝和垂直方向狭缝，狭缝宽度调节范围为0至20mm，狭缝组到微孔薄膜的距离随狭缝宽度的增大而增大。

2.根据权利要求1所述的基于微孔薄膜的高亮度可调控X射线赝热光源，其特征在于所述的单色X射线产生系统的振荡器产生的热X射线经自由空间传播，在白光狭缝处被限束后进入双晶单色器，经双晶单色器单色化后成为单色X射线。

3.根据权利要求1所述的基于微孔薄膜的高亮度可调控X射线赝热光源，其特征在于所述的单色X射线产生系统产生的单色X射线，经过赝热X射线调控腔内的可调狭缝组后穿透微孔薄膜，在微孔薄膜后方衍射形成X射线散斑，其水平和垂直方向的散斑尺度δx和δy与可调狭缝组的狭缝宽度d_x和d_y满足关系式：

δx=zdxl,]]>δy=zdyl,]]>

式中，l为振荡器到微孔薄膜的距离，z为微孔薄膜到探测处的距离。

4.根据权利要求1所述的基于微孔薄膜的高亮度可调控X射线赝热光源，其特征在于所述的微孔薄膜运动控制器，具有平移或旋转机构。