[发明专利]一种制备任意厚度的带有绝缘埋层的衬底的方法有效

专利信息
申请号: 201110123907.3 申请日: 2011-05-13
公开(公告)号: CN102201362A 公开(公告)日: 2011-09-28
发明(设计)人: 张峰;曹共柏;魏星;王文宇;王曦 申请(专利权)人: 上海新傲科技股份有限公司
主分类号: H01L21/762 分类号: H01L21/762;H01L21/304
代理公司: 上海翼胜专利商标事务所(普通合伙) 31218 代理人: 孙佳胤;翟羽
地址: 201821 *** 国省代码: 上海;31
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 一种制备任意厚度的带有绝缘埋层的衬底的方法,采用了研磨的方法将器件衬底和支撑衬底研磨减薄到接近目标厚度,再采用抛光工艺做精细加工,且在研磨减薄工艺中特别为器件衬底预留了更多的余量,以保证器件衬底能够得到更为精细的抛光。以上方法通过将常规的研磨和抛光等工艺巧妙结合,并根据目标厚度来控制每一步实施完毕后所保留的衬底厚度,从而做到了能够在支撑衬底的机械强度允许的范围内将支撑衬底减薄到任意厚度。
搜索关键词: 一种 制备 任意 厚度 带有 绝缘 衬底 方法
【主权项】:
一种制备任意厚度的带有绝缘埋层的衬底的方法,其特征在于,包括如下步骤:提供一器件衬底和一支撑衬底;在器件衬底和支撑衬底至少一个的表面形成绝缘层;以绝缘层为中间层,将器件衬底与支撑衬底键合,形成三层复合衬底;研磨减薄复合衬底中的支撑衬底至第一厚度,所述第一厚度大于支撑衬底的目标厚度;研磨减薄复合衬底中的器件衬底至第二厚度,所述第二厚度大于器件衬底的目标厚度,且第二厚度与器件衬底目标厚度的差值大于第一厚度与支撑衬底目标厚度的差值;对键合后的复合衬底实施双面抛光,同时减薄支撑衬底和器件衬底,至支撑衬底的厚度达到目标厚度;对键合后的复合衬底中的器件衬底实施单面抛光,至器件衬底的厚度达到目标厚度。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海新傲科技股份有限公司,未经上海新傲科技股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201110123907.3/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top