[发明专利]光学系统、检查系统以及制造方法有效
申请号: | 201110112084.4 | 申请日: | 2011-04-26 |
公开(公告)号: | CN102243445A | 公开(公告)日: | 2011-11-16 |
发明(设计)人: | L·赖齐科夫;Y·乌拉迪米尔斯基;詹姆斯·H·沃尔什 | 申请(专利权)人: | ASML控股股份有限公司 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20;G02B13/06;G02B13/18;G02B13/00;G01N21/88;G01N21/956 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 吴敬莲 |
地址: | 荷兰维*** | 国省代码: | 荷兰;NL |
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摘要: | 本发明披露了一种光学系统、检查系统和制造方法,其中使用广角光学系统提供用于检查的系统和方法。光学系统包括广角输入透镜组和输出透镜组。广角输入透镜组配置成接收例如具有60度或更大角展度的来自物体表面的展角辐射并形成可成像辐射。广角输入透镜组被布置成使得在广角输入透镜组内或之后不形成中间聚焦图像。输出透镜组被配置成接收来自广角输入透镜组的可成像辐射并将可成像辐射聚焦到像平面上以成像物体表面的至少一部分。检测器接收物体表面的至少一部分的图像,并基于所接收的图像以检测例如物体表面上的污染物。 | ||
搜索关键词: | 光学系统 检查 系统 以及 制造 方法 | ||
【主权项】:
一种光学系统,包括:广角输入透镜组,配置成接收来自物体表面的辐射并由其形成可成像辐射,使得在广角输入透镜组内或之后不形成中间聚焦图像;和输出透镜组,配置成接收来自广角输入透镜组的可成像辐射并将可成像辐射聚焦到像平面上以成像物体表面的至少一部分。
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