[发明专利]光学系统、检查系统以及制造方法

权利要求书

1.一种光学系统，包括：

广角输入透镜组，配置成接收来自物体表面的辐射并由其形成可成像辐射，使得在广角输入透镜组内或之后不形成中间聚焦图像；和

输出透镜组，配置成接收来自广角输入透镜组的可成像辐射并将可成像辐射聚焦到像平面上以成像物体表面的至少一部分。

2.根据权利要求1所述的光学系统，其中，所述广角输入透镜组配置成接收具有至少约60度的角展度的辐射。

3.根据权利要求1所述的光学系统，其中，所述物体选自由下面项构成的组：光刻系统内的保持装置、夹盘或台以及掩模版、与掩模版相关的薄膜、衬底。

4.根据权利要求1所述的光学系统，其中，所述广角输入透镜组包括具有非球面表面的广角输入透镜组双合透镜和前光学元件。

5.根据权利要求1所述的光学系统，其中，所述输出透镜组包括具有非球面表面的最终透镜元件和双合透镜。

6.根据权利要求1所述的光学系统，其中，所述光学系统布置成是非焦阑或非远心的。

7.根据权利要求1所述的光学系统，其中，所述广角输入透镜组和输出透镜组配置成在光学系统内可交换地布置以便改变光学系统的放大率。

8.一种用以检查物体表面的检查系统，所述检查系统包括：

光学系统，包括：

广角输入透镜组，配置成接收来自物体表面的辐射并由其形成可成像辐射，使得在广角输入透镜组内或之后不形成中间聚焦图像；和

输出透镜组，配置成接收来自广角输入透镜组的可成像辐射并将可成像辐射聚焦到像平面上以成像物体表面的至少一部分；和

检测器，配置成接收物体表面的至少一部分的图像，并且基于所接收的图像检测污染物、物体表面的反常特征和/或物体表面上的图案。

9.根据权利要求8所述的检查系统，其中，所述光学系统配置成接收具有至少约60度的角展度的辐射。

10.根据权利要求8所述的检查系统，其中，所述物体选自由下面项构成的组：光刻系统内的保持装置、夹盘或台以及掩模版、与掩模版相关的薄膜、衬底。

11.根据权利要求8所述的检查系统，其中，所述图案包括掩模版上的条形码。

12.一种光刻设备，包括：

支撑结构，配置成保持图案形成装置，所述图案形成装置配置成在束的横截面上将图案赋予束；

衬底台，配置成保持衬底；

投影系统，用以将图案化的束投影到衬底的目标部分上；和检查系统，用以检查物体表面，所述检查系统包括：

光学系统，所述光学系统包括：

广角输入透镜组，配置成接收来自物体表面的辐射并由其形成可成像辐射，使得在广角输入透镜组内或之后不形成中间聚焦图像；和

输出透镜组，配置成接收来自广角输入透镜组的可成像辐射并将可成像辐射聚焦到像平面上以成像物体表面的至少一部分；

和

检测器，配置成接收物体表面的至少一部分的图像，并且基于所接收的图像检测污染物、物体表面的反常特征和/或物体表面上的图案。

13.根据权利要求12所述的光刻设备，其中，所述物体选自由下面项构成的组：光刻系统内的保持装置、夹盘或台以及图案形成装置、与图案形成装置相关的薄膜、衬底。

14.根据权利要求12所述的光刻设备，其中，所述广角透镜组的视角至少为约60度。

15.一种制造方法，包括步骤：

将图案化的辐射束投影到衬底的目标部分上；和

检查物体表面，所述检查步骤包括：

接收来自广角输入透镜组处的物体表面的辐射以由其形成可成像辐射，使得在广角输入透镜组内或之后不形成中间聚焦图像；

将来自广角输入透镜组的可成像辐射聚焦到像平面上以成像物体表面的至少一部分；和

基于物体表面的至少一部分的图像检测污染物、物体表面的反常特征和/或物体表面上的图案。