[发明专利]表面带有Hf-Si-N梯度涂层的医用镁合金及其制备方法有效
| 申请号: | 201110090572.X | 申请日: | 2011-04-12 |
| 公开(公告)号: | CN102191481A | 公开(公告)日: | 2011-09-21 |
| 发明(设计)人: | 金国;崔秀芳;李莉;郝金龙;王忠禹 | 申请(专利权)人: | 哈尔滨工程大学 |
| 主分类号: | C23C16/44 | 分类号: | C23C16/44;C23C28/00;C23C16/06;C23C16/22;C23C16/24 |
| 代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
| 地址: | 150001 黑龙江省哈尔滨市南岗区*** | 国省代码: | 黑龙江;23 |
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| 摘要: | 本发明提供的是一种带有表面Hf-Si-N梯度涂层的医用镁合金的制备方法。(1)对镁合金基材进行前处理;(2)在前处理后的镁合金基材表面利用离子束辅助气相沉积制备一层致密Mg薄膜;(3)在制备好的Mg薄膜表面利用离子束辅助气相沉积制备Mg-Hf梯度涂层;(4)在制备好的Mg-Hf梯度涂层表面利用离子束辅助气相沉积制备Hf-N梯度涂层;(5)在制备好的Hf-N梯度涂层表面利用离子束辅助气相沉积制备Hf-Si-N梯度涂层。本发明选用的镁合金是目前正在广泛研究的潜在的生物医用材料,通过离子束辅助气相沉积(IBAD)方法在医用镁合金表面制备Hf-Si-N薄膜,以提高其耐腐蚀、耐磨损性能,并进一步提高其生物相容性。 | ||
| 搜索关键词: | 表面 带有 hf si 梯度 涂层 医用 镁合金 及其 制备 方法 | ||
【主权项】:
一种表面带有Hf‑Si‑N梯度涂层的医用镁合金包括医用镁合金基材,在医用镁合金基材表面有利用离子束辅助气相沉积的方法制备的Hf‑Si‑N梯度涂层,所述Hf‑Si‑N梯度涂层的总厚度小于1μm。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
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