[发明专利]光掩模及其制造方法

摘要

本发明涉及光掩模及其制造方法。一种光掩模，其以如下方式形成：针对形成于待蚀刻加工的被加工体上的抗蚀剂膜，进行转印图案部的图案的转印，使抗蚀剂膜成为作为所述蚀刻加工中的掩模的抗蚀剂图案。在所述转印图案部中，设置有通过对形成在透明基板上的半透光膜进行构图而形成的透光部和半透光部。在透明基板的与所述转印图案部不同的区域中，设置由遮光膜形成的标记图案形成部。

主权项

一种光掩模，其用于液晶显示装置的制造，该光掩模具有用于转印到抗蚀剂膜上的转印图案，所述抗蚀剂膜形成在待蚀刻加工的被加工体上，该光掩模的特征在于，在所述光掩模的转印区域中具有由透光部和半透光部构成的包含线与间隙图案的转印图案，该转印图案是通过对形成在透明基板上的半透光膜进行构图而得到的，在所述光掩模的转印区域外，具有对形成在所述透明基板上的遮光膜进行构图而得到的标记图案。