[发明专利]一种具有可见光活性的硅掺杂二氧化钛薄膜的制备方法无效
| 申请号： | 201110075413.2 | 申请日： | 2011-03-28 |
| 公开（公告）号： | CN102188961A | 公开（公告）日： | 2011-09-21 |
| 发明（设计）人： | 崔晓莉;孙明轩;张晓艳 | 申请（专利权）人： | 复旦大学 |
| 主分类号： | B01J21/06 | 分类号： | B01J21/06;C01B3/04 |
| 代理公司： | 上海正旦专利代理有限公司 31200 | 代理人： | 陆飞;盛志范 |
| 地址： | 200433 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明属于催化化工技术领域，具体为一种具有可见光活性的硅掺杂二氧化钛薄膜的制备方法。本发明所用的原材料为金属钛和二氧化硅粉体，设备是马福炉，在SiO2中热处理金属钛，控制热处理温度为400ºC~550ºC，氧化时间为0.5-15小时，形成具有可见光活性的硅掺杂二氧化钛（TiO2-Si）薄膜。本发明方法，通过简单的热处理制备可见光活性的TiO2-Si薄膜，设备简单，不涉及“三废”的排放，符合节能减排的要求。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 具有 可见光 活性 掺杂 氧化 薄膜 制备 方法 | ||
【主权项】：
一种具有可见光活性的硅掺杂二氧化钛薄膜的制备方法，其特征在于：所用的原材料为金属钛和二氧化硅粉体，设备是马福炉，在二氧化钛中热处理金属钛，控制热处理温度为400ºC ~ 550ºC，氧化时间为0.5‑15小时，形成具有可见光活性的硅掺杂二氧化钛薄膜。
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