[发明专利]一种具有可见光活性的硅掺杂二氧化钛薄膜的制备方法无效
| 申请号: | 201110075413.2 | 申请日: | 2011-03-28 |
| 公开(公告)号: | CN102188961A | 公开(公告)日: | 2011-09-21 |
| 发明(设计)人: | 崔晓莉;孙明轩;张晓艳 | 申请(专利权)人: | 复旦大学 |
| 主分类号: | B01J21/06 | 分类号: | B01J21/06;C01B3/04 |
| 代理公司: | 上海正旦专利代理有限公司 31200 | 代理人: | 陆飞;盛志范 |
| 地址: | 200433 *** | 国省代码: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 具有 可见光 活性 掺杂 氧化 薄膜 制备 方法 | ||
【权利要求书】:
1.一种具有可见光活性的硅掺杂二氧化钛薄膜的制备方法,其特征在于:所用的原材料为金属钛和二氧化硅粉体,设备是马福炉,在二氧化钛中热处理金属钛,控制热处理温度为400oC ~ 550oC,氧化时间为0.5-15小时,形成具有可见光活性的硅掺杂二氧化钛薄膜。
2.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于:硅掺杂量为二氧化钛质量的0.5%-2.0%。
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