[发明专利]光刻设备、照射系统、投影系统以及使用光刻设备制造器件的方法有效
| 申请号： | 201110069632.X | 申请日： | 2011-03-16 |
| 公开（公告）号： | CN102193337A | 公开（公告）日： | 2011-09-21 |
| 发明（设计）人： | J·G·高森;A·J·范德奈特;B·D·帕尔惠斯;F·J·J·范鲍克斯台尔;李靖高 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司;ASML控股股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 王波波 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 本发明公开了一种光刻设备、照射系统、投影系统以及使用光刻设备制造器件的方法。提供一种气体幕帘以将光刻设备的构件与被污染气体分开。气体幕帘通过开口供给。开口位于与构件的表面接触的保护环境的边界处。气体幕帘可以将构件与设备的移动部分分开。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 设备 照射 系统 投影 以及 使用 制造 器件 方法 | ||
【主权项】：
一种光刻设备，包括：具有与保护气体接触的被保护表面的构件；和保护装置，包括至少一个开口，所述至少一个开口配置成沿不邻接所述被保护表面的路径引导气流至除所述被保护表面以外的表面，其中，所述气流基本上阻止气体从所述气流的相对侧到达所述气流的与所述被保护表面相同的一侧。
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