[发明专利]光刻设备、照射系统、投影系统以及使用光刻设备制造器件的方法

权利要求书

1.一种光刻设备，包括：

具有与保护气体接触的被保护表面的构件；和

保护装置，包括至少一个开口，所述至少一个开口配置成沿不邻接所述被保护表面的路径引导气流至除所述被保护表面以外的表面，

其中，所述气流基本上阻止气体从所述气流的相对侧到达所述气流的与所述被保护表面相同的一侧。

2.一种光刻设备，包括：

具有被保护表面的构件；

表面遮蔽物，配置成沿邻接所述被保护表面的路径引导保护气体流、以保护所述被保护表面；和

保护装置，包括至少一个开口，所述至少一个开口配置成引导与所述保护气体流不同的气流，

其中，所述气流基本上阻止气体从所述气流的相对侧到达所述气流的与所述被保护表面相同的一侧。

3.如前述权利要求中任一项所述的光刻设备，其中，所述保护装置配置成将所述被保护表面与所述气流的所述相对侧分开。

4.如前述权利要求中任一项所述的光刻设备，其中，所述至少一个开口配置成引导基本上垂直于被污染的气流的气流朝向所述构件。

5.如前述权利要求中任一项所述的光刻设备，其中，所述保护装置定位在所述被保护表面和所述光刻设备的配置成相对于所述构件移动的部件之间。

6.如前述权利要求中任一项所述的光刻设备，其中，所述保护装置包括气体幕帘。

7.如前述权利要求中任一项所述的光刻设备，其中，所述至少一个开口配置成引导与设置开口的表面相垂直的气流。

8.如前述权利要求中任一项所述的光刻设备，其中，所述至少一个开口配置成沿垂直于所述被保护表面以外的表面的路径引导气流。

9.如前述权利要求中任一项所述的光刻设备，其中，所述保护气体相对于所述气流的相对侧处的气体被保持为过压。

10.如前述权利要求中任一项所述的光刻设备，其中，所述保护装置还包括流动分隔部，所述至少一个开口配置成引导所述气流朝向所述流动分隔部。

11.如前述权利要求中任一项所述的光刻设备，其中，所述保护装置包括流动分隔部，所述流动分隔部配置成使通过至少一个开口被引导的所述气流改变方向朝向所述被保护表面，并且改变外部气体的方向使其离开所述被保护表面。

12.如前述权利要求中任一项所述的光刻设备，还包括：

净化板，配置成基本上阻止气体到达所述被保护表面；和

净化板抽取器，配置成抽取由所述保护装置的所述至少一个开口提供的气体，其中所述净化板抽取器包括位于所述净化板内的开口。

13.一种光刻设备，包括：

具有物镜的照射系统，其中物镜的被保护表面与保护气体接触；和

保护装置，包括至少一个开口，所述至少一个开口配置成沿不邻接所述被保护表面的路径引导气流至所述被保护表面以外的表面，

其中所述气流基本上阻止气体从所述气流的相对侧到达所述气流的与所述被保护表面相同的一侧。

14.一种光刻设备，包括：

具有透镜的投影系统，其中所述透镜的被保护表面与保护气体接触；和

保护装置，包括至少一个开口，所述至少一个开口配置成沿不邻接所述被保护表面的路径引导气流至所述被保护表面以外的表面，

其中，所述气流基本上阻止气体从所述气流的相对侧到达所述气流的与所述被保护表面相同的一侧。

15.一种使用光刻设备制造器件的方法，所述光刻设备包括具有与保护气体接触的被保护表面的构件，所述方法包括步骤：

沿不邻接所述被保护表面的路径引导来自至少一个开口的气流至所述被保护表面以外的表面，

其中，所述气流基本上阻止气体从所述气流的相对侧到达所述气流的与所述被保护表面相同的一侧。