[发明专利]单波长高功率1319nm连续激光器有效

专利信息
申请号: 201110068452.X 申请日: 2011-03-22
公开(公告)号: CN102185237A 公开(公告)日: 2011-09-14
发明(设计)人: 王建军;苑利钢;姜东升;赵鸿;赵书云;张驰;邹跃;杨涛 申请(专利权)人: 中国电子科技集团公司第十一研究所
主分类号: H01S3/06 分类号: H01S3/06;H01S3/07;H01S3/081;H01S3/16
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 100015*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明提供一种高功率1319nm单一波长连续输出固体激光器的设计方法,激光器主要包括:三套侧面环绕泵浦激光二极管模块、三个激光晶体、谐振腔后腔镜以及输出镜。激光晶体在吸收激光二极管泵浦能量后,产生包括1064nm、1319nm、1338nm在内的多个波长的荧光辐射,在激光晶体端面镀膜膜层以及谐振腔腔镜镀膜膜层的共同作用下,1064nm以及1338nm波长激光振荡被抑制,1319nm波长激光不断的被受激辐射放大,由输出镜耦合输出,产生1319nm波长激光输出,其输出功率高达300W,具有结构紧凑、输出稳定、光束质量好等优点,高功率1319nm波长激光器在医疗、工业、科研等方面有着广泛的应用,对其倍频后可产生高功率660nm波长的红光,可用于大型活动的激光表演以及城市地标应用。
搜索关键词: 波长 功率 1319 nm 连续 激光器
【主权项】:
一种单波长高功率1319nm激光器,其特征在于:该激光器包括:在水平光路上依次设置的全反镜系统、第一激光晶体、第二激光晶体、第三激光晶体、输出镜系统,三个半导体泵浦模块分别环绕上述三个激光晶体进行侧面泵浦,其中:该全反镜系统包括:二维光学调整架、全反镜、全反镜冷却装置;该输出镜系统包括:二维光学调整架、平面耦合输出镜、平面耦合输出镜冷却装置;其中全反镜采用窄带镀膜,镀膜参数为:1064nm波长光透过率T1064≥50%,1319nm波长光反射率R1319≥99.9%,1338nm波长光透过率T1338≥80%;输出镜膜层镀膜参数为:1064nm波长光透过率T1064≥95%,1319nm波长激光耦合输出率T1319的选取范围为15%~25%;各激光晶体的端面均镀有1064nm以及1319nm双增透膜层,透过率分别为T1064>95%和T1319>99.9%。每个该半导体泵浦模块包括:泵浦架,激光二极管,波导片,以及漫反射壁;激光二极管,波导片,以及漫反射壁设置于泵浦架上,激光二极管分成3列,围绕在激光晶体周围,激光二极管发出的光经波导片耦合进激光晶体,未被直接吸收的泵浦光经漫反壁反射后最终耦合到相应的激光晶体内;三个半导体泵浦模块分别环绕三个激光晶体进行侧面泵浦,激光晶体在吸收LD泵浦光能量后产生多个波长的受激荧光辐射,在各激光晶体端面镀膜膜层以及两个谐振腔腔镜的共同作用下,1319nm波长的受激荧光辐射在谐振腔内不断的被放大输出,而其他波长的荧光则被抑制无法产生激光振荡,从而使得输出激光中只含有1319nm单一波长的光。
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