[发明专利]用于显影光刻胶的装置以及用于操作该装置的方法有效
| 申请号： | 201110059692.3 | 申请日： | 2006-08-07 |
| 公开（公告）号： | CN102117019A | 公开（公告）日： | 2011-07-06 |
| 发明（设计）人： | 戴维·J·赫姆克;弗里茨·C·雷德克;约翰·M·博伊德 | 申请（专利权）人： | 朗姆研究公司 |
| 主分类号： | G03F7/30 | 分类号： | G03F7/30;H01L21/00;B08B3/04 |
| 代理公司： | 上海胜康律师事务所 31263 | 代理人： | 周文强;李献忠 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 一种用于显影在基片上经曝光的光刻胶材料的装置，包括：临近端头，其配置为在该基片上限定光刻胶显影液的弯液面，该弯液面限定在该临近端头的底部和该基片之间，该临近端头进一步配置为从该基片大体上去除所设置的光刻胶显影液的弯液面。以及，一种用于控制光刻胶显影液在基片上存留时间的方法，包括：在该基片上限定光刻胶显影液的弯液面；在该基片上横向移动该限定的光刻胶显影液的弯液面；以及控制该光刻胶显影液在该基片上的存留时间，其中该存留时间代表该基片上给定位置暴露于该光刻胶显影液的弯液面的持续时间。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 显影 光刻 装置 以及 操作 方法 | ||
【主权项】：
一种用于显影在基片上经曝光的光刻胶材料的装置，包括：临近端头，其配置为在该基片上限定光刻胶显影液的弯液面，该弯液面限定在该临近端头的底部和该基片之间，该临近端头进一步配置为从该基片大体上去除所设置的光刻胶显影液的弯液面。
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