[发明专利]用于显影光刻胶的装置以及用于操作该装置的方法

权利要求书

1.一种用于显影在基片上经曝光的光刻胶材料的装置，包括：

临近端头，其配置为在该基片上限定光刻胶显影液的弯液面，该弯液面限定在该临近端头的底部和该基片之间，该临近端头进一步配置为从该基片大体上去除所设置的光刻胶显影液的弯液面。

2.根据权利要求1所述的用于显影在基片上经曝光的光刻胶材料的装置，进一步包括：

运送装置，其限定为在该临近端头下以直线速度运输该基片，该速度限定为控制该光刻胶显影液的弯液面在基片上的存留时间。

3.根据权利要求1所述的用于显影在基片上经曝光的光刻胶材料的装置，其中该临近端头包括光刻胶显影液传输通道和真空通道，以支持该光刻胶显影液弯液面在基片上的限定和约束。

4.根据权利要求1所述的用于显影在基片上经曝光的光刻胶材料的装置，其中该临近端头包括干燥流体传输通道，用于支持该基片的干燥。

5.根据权利要求1所述的用于显影在基片上经曝光的光刻胶材料的装置，进一步包括：

第二临近端头，其配置为在该基片上设置清洗流体以及从该基片去除该设置的清洗流体，该第二临近端头配置为在从该基片的一部分去除该光刻胶显影液的弯液面后，提供对该基片部分的清洗。

6.一种用于控制光刻胶显影液在基片上存留时间的方法，包括：

在该基片上限定光刻胶显影液的弯液面；

在该基片上横向移动该限定的光刻胶显影液的弯液面；以及

控制该光刻胶显影液在该基片上的存留时间，其中该存留时间代表该基片上给定位置暴露于该光刻胶显影液的弯液面的持续时间。

7.根据权利要求6所述的用于控制光刻胶显影液在基片上存留时间的方法，其中该弯液面限定为覆盖一个区域，该区域在第一方向的范围至少为该基片直径，以及在第二方向上的范围小于该第一方向上的范围，该第二方向垂直于该第一方向，所限定的弯液面以与该第二方向相一致的线性方式在该基片上横向移动。

8.根据权利要求6所述的用于控制光刻胶显影液在基片上存留时间的方法，其中控制该光刻胶显影液的存留时间包括控制所限定的光刻胶显影液弯液面和该基片之间的相对速度。

9.根据权利要求6所述的用于控制光刻胶显影液在基片上存留时间的方法，进一步包括：

紧接该光刻胶显影液的弯液面在该基片的部分上的横向移动后，在该基片的部分上设置干燥流体。

10.根据权利要求6所述的用于控制光刻胶显影液在基片上存留时间的方法，进一步包括：

在该基片上限定清洗流体的弯液面；

以关于该光刻胶显影液的弯液面随后的方式，在该基片上横向移动该限定的清洗流体的弯液面；以及

控制该清洗流体的弯液面和该光刻胶显影液的弯液面之间的间隔距离，其中控制该间隔距离使得能够控制该光刻胶显影液在该基片上的存留时间。

11.根据权利要求6所述的用于控制光刻胶显影液在基片上存留时间的方法，进一步包括：

该光刻胶显影液的弯液面在该基片上横向移动后，评估所得到的基片状况；以及

基于评估的该基片的状况，调整对该光刻胶显影液在该基片上存留时间的控制，以改进随后将要在该光刻胶显影液的弯液面下横向移动的基片的所得状况。