[发明专利]一种基于单体原位聚合的均相阴离子交换膜及其制备方法有效
| 申请号： | 201110057825.3 | 申请日： | 2011-03-10 |
| 公开（公告）号： | CN102179186A | 公开（公告）日： | 2011-09-14 |
| 发明（设计）人： | 徐铜文;林小城;吴亮 | 申请（专利权）人： | 中国科学技术大学 |
| 主分类号： | B01D71/28 | 分类号： | B01D71/28;B01D67/00;B01D69/10;B01J41/12;C08F212/14;C08F212/36;C08F2/44;C08J7/12;C08J5/22 |
| 代理公司： | 安徽省合肥新安专利代理有限责任公司 34101 | 代理人： | 汪祥虬 |
| 地址： | 230026*** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种基于单体原位聚合的均相阴离子交换膜及其制备方法，特征是在每4ml氯甲基苯乙烯单体中加入0.08-0.80ml二乙烯基苯，再加入0.5-2g酚酞基聚醚酮和0.04-0.20g过氧化二苯甲酰或偶氮二异丁腈，混合均匀形成铸膜液，均匀涂覆在增强织物上，在70-130℃加热6-48小时原位聚合；将得到的基膜浸泡在质量分数为10-40％的三甲胺水溶液中季铵化反应6-48h，洗涤，干燥；所得阴离子交换膜的离子交换含量高、OH-电导率高，膜相均匀、膜结构稳定，机械强度高、耐热性强，可系列开发满足膜在不同领域的需要。本发明方法避免了有害溶剂的使用，生产简便，成本低，是一种绿色经济的生产工艺。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 基于 单体 原位 聚合 均相 阴离子 交换 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
一种基于单体原位聚合的均相阴离子交换膜，由高分子共聚物、高分子增强剂和增强织物组成；其特征在于：所述高分子共聚物为氯甲基化苯乙烯和二乙烯基苯共聚物；所述高分子增强剂为酚酞基聚醚酮；所述增强织物为聚乙烯布、聚丙烯布、锦纶布、涤纶布或尼龙布；该阴离子交换膜中高分子增强剂与高分子共聚物的质量比为1∶2‑8，膜的含水量为2.1‑91.0％，离子交换含量为0.11‑2.06mmol.g‑1，膜的机械强度为50‑60MPa，膜的OH‑电导为0.002‑0.027S cm‑1。
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