[发明专利]一种基于单体原位聚合的均相阴离子交换膜及其制备方法

权利要求书

1.一种基于单体原位聚合的均相阴离子交换膜，由高分子共聚物、高分子增强剂和增强织物组成；其特征在于：所述高分子共聚物为氯甲基化苯乙烯和二乙烯基苯共聚物；所述高分子增强剂为酚酞基聚醚酮；所述增强织物为聚乙烯布、聚丙烯布、锦纶布、涤纶布或尼龙布；该阴离子交换膜中高分子增强剂与高分子共聚物的质量比为1∶2-8，膜的含水量为2.1-91.0％，离子交换含量为0.11-2.06mmol.g^-1，膜的机械强度为50-60MPa，膜的OH^-电导为0.002-0.027S cm^-1。

2.权利要求1所述基于单体原位聚合的均相阴离子交换膜的制备方法，其特征在于：在每4ml氯甲基苯乙烯单体中加入0.08-0.80ml交联剂二乙烯基苯，混合形成均匀溶液，再将0.5-2g高分子增强剂酚酞基聚醚酮溶解在上述混合溶液中，加入0.04-0.20g引发剂过氧化二苯甲酰或偶氮二异丁腈，混合均匀后，形成铸膜液；将该铸膜液均匀涂覆在增强织物上后，在70-130℃加热6-48小时进行热引发原位聚合，得到基膜；将该基膜浸泡在三甲胺质量分数为10-40％的水溶液中季铵化6-48h，取出后用去离子水洗涤，再放置在空气中室温自然干燥，即得到阴离子交换膜；

所述高分子增强剂酚酞基聚醚酮，其结构为：

3.如权利要求2所述基于单体原位聚合的均相阴离子交换膜的制备方法，特征在于所述增强织物为聚乙烯布、聚丙烯布、锦纶布、涤纶布或尼龙布。