[发明专利]基板保持装置及使用该基板保持装置的缺陷修正装置无效
申请号: | 201110050773.7 | 申请日: | 2011-02-24 |
公开(公告)号: | CN102201355A | 公开(公告)日: | 2011-09-28 |
发明(设计)人: | 藤田康之;大庭博明;井上达司;山中昭浩 | 申请(专利权)人: | NTN株式会社 |
主分类号: | H01L21/683 | 分类号: | H01L21/683;H01L21/677;G01N21/956;B65G49/06;H01L21/66 |
代理公司: | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人: | 胡晓萍 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 一种缺陷修正装置(1),配置有供玻璃基板(99)装载的一对基板端支承台3。在一对基板端支承台(3)之间的区域内配置有多个基板支承用滚轮机构(4),这些基板支承用滚轮机构(4)从下方对玻璃基板(99)予以支承。基板支承用滚轮机构(4)安装有将所装载的玻璃基板(99)的下表面吸附并保持的基板吸附台(26)。藉此,能得到用更简易的结构来对基板进行保持的基板保持装置和应用该基板保持装置的缺陷修正装置。 | ||
搜索关键词: | 保持 装置 使用 缺陷 修正 | ||
【主权项】:
一种基板保持装置,适用于对形成于规定基板的图案的缺陷进行修正,其特征在于,所述基板保持装置包括:一对基板端支承台,这一对基板端支承台彼此隔开间隔地朝第一方向延伸,并从下方对规定基板的彼此相对的端部予以支承;基板支承用滚轮机构,该基板支承用滚轮机构配置于所述一对基板端支承台之间的区域内,从下方对装载于所述一对基板端支承台的所述基板予以支承,并能分别朝所述第一方向和与所述第一方向相反的方向自由移动;以及基板吸附台,该基板吸附台安装于所述基板支承用滚轮机构,从而能与所述基板支承用滚轮机构一起自由移动,并对装载于所述一对基板端支承台的所述基板的下表面进行吸附,所述基板支承用滚轮机构包括:滚轮主体,该滚轮主体具有多个滚轮构件、能将多个所述滚轮构件分别支承成能转动的多个滚轮支承轴、将多个所述滚轮支承轴环状连结的滚轮支承轴连结板;以及滚轮主体导向部,该滚轮主体导向部将所述滚轮主体配置在通过所述滚轮构件能从下方对装载于所述一对基板端支承台的基板予以支承的规定高度的第一位置,还将所述滚轮主体配置在比所述第一位置更低的第二位置,并使所述滚轮主体在所述第一位置与所述第二位置之间环状转动地进行引导。
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H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
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