[发明专利]一种打印机光谱特征化模型的修正方法

摘要

本发明公开了一种打印机光谱特征化模型的修正方法。它可显著改善由不同墨水、纸张、温度以及空气湿度等打印环境变化所引起的光谱特征化模型精度降低的情况，适用于多种打印机光谱特征化模型。通过选取20-50个基本覆盖打印机色域的修正样本（墨水配方和光谱反射比），在新的打印环境下打印并测量，再经比较分析，求得相应的正向和反向波长修正系数，用于修正原光谱特征化模型的输入或输出参数，最终实现原正向和反向光谱特征化模型在新打印环境下的准确预测。本发明避免了重新建模所带来的浪费与不便，同时又克服了由打印环境变化造成的模型精度显著降低的问题，且易于实施。

主权项

一种打印机光谱特征化模型的修正方法，其特征在于包括正向打印机光谱特征化模型的修正和反向打印机光谱特征化模型的修正，其中：正向打印机光谱特征化模型的修正的步骤如下：1）选取20‑50个基本覆盖打印机色域的不同于训练样本的修正样本，将其墨水配方作为输入墨水配方，经原正向光谱特征化模型预测相应的光谱反射比Rpre；2）在新的打印环境下，通过打印机输出得到修正样本的硬拷贝，并测得其正向目标光谱反射比Rtarget,正；3）采用最小二乘法，分别用截距为0的线性方程，拟合所有修正样本的Rpre和Rtarget,正在各波长的数据，并计算得出正向波长修正系数αλ； 4）对于任一输入墨水配方，先利用原正向光谱特征化模型进行预测，然后用正向波长修正系数αλ修正原正向光谱特征化模型所预测的光谱反射比，得到基于新打印环境的预测光谱反射比；反向打印机光谱特征化模型的修正的步骤如下：5）选取20‑50个基本覆盖打印机色域且不同于训练样本的修正样本，将其光谱反射比作为目标光谱反射比Rtarget,反，通过原反向光谱特征化模型预测相应的墨水配方；6）在新的打印环境下，通过打印机输出预测的墨水配方而得到修正样本的硬拷贝，并测得复现光谱反射比Rrep；7）采用最小二乘法，分别用截距为0的线性方程拟合所有修正样本的Rrep和Rtarget,反在各波长的对应关系，并计算得出反向波长修正系数βλ； 8）对于任一输入目标光谱反射比，以反向波长修正系数βλ来修正目标光谱反射比Rtarget,反，求得修正后的目标光谱反射比R’target,反，并作为原反向特征化模型的输入目标光谱反射比，再经原反向光谱特征化模型预测在新打印环境下的墨水配方，实现原反向光谱特征化模型在新的打印环境下的准确复现。