[发明专利]一种打印机光谱特征化模型的修正方法无效

专利信息
申请号: 201110042430.6 申请日: 2011-02-22
公开(公告)号: CN102180003A 公开(公告)日: 2011-09-14
发明(设计)人: 徐海松;王彬宇 申请(专利权)人: 浙江大学
主分类号: B41J2/00 分类号: B41J2/00;G01N21/25;G06K9/66
代理公司: 杭州求是专利事务所有限公司 33200 代理人: 张法高
地址: 310027 浙*** 国省代码: 浙江;33
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 打印机 光谱 特征 模型 修正 方法
【说明书】:

技术领域

发明涉及一种打印机光谱特征化模型的修正方法,具体是涉及修正由不同墨水、纸张、温度和空气湿度等打印环境变化引起的光谱特征化模型精度降低的方法。

背景技术

打印机光谱特征化模型通常包括正和反两个方向。正向光谱特征化模型是指建立从与设备相关的墨水配方(如,青、品红、黄、黑的数字化设备驱动值)到与设备无关的光谱反射比之间的关系;反之,则称为反向光谱特征化模型。由于人们常常希望通过打印可以获得某一种颜色,因此反向模型一般更为实用。打印机光谱特征化模型的建立往往需要打印并测量几百甚至几千个训练样本。然而,所建立的模型仅仅适用于建模时的打印环境,包括墨水、纸张、温度以及空气湿度等。一旦改变墨水(即使是同一型号的墨水)、纸张、打印时的温度和空气湿度,模型的精度会急剧地降低,需要再次建模。但是,建模需重新打印大量的训练样本,这又是对墨水、纸张等耗材的浪费,也不符合节能环保的理念。对于上述问题,目前学术界和工业界都还没有提出由于墨水、纸张、温度已经空气湿度等打印环境变化所导致光谱特征化模型精度降低的修正方法。

发明内容

本发明的目的是为了解决背景技术中所述的问题,提供一种打印机光谱特征化模型的修正方法。

打印机光谱特征化模型的修正方法,其特征在于包括正向打印机光谱特征化模型的修正和反向打印机光谱特征化模型的修正,其中:

正向打印机光谱特征化模型的修正的步骤如下:

1)选取20-50个基本覆盖打印机色域的不同于训练样本的修正样本,将其墨水配方作为输入墨水配方,经原正向光谱特征化模型预测相应的光谱反射比Rpre

2)在新的打印环境下,通过打印机输出得到修正样本的硬拷贝,并测得其正向目标光谱反射比Rtarget,正

3)采用最小二乘法,分别用截距为0的线性方程,拟合所有修正样本的RpreRtarget,正在各波长的数据,并计算得出正向波长修正系数αλ

4)对于任一输入墨水配方,先利用原正向光谱特征化模型进行预测,然后用正向波长修正系数αλ修正原正向光谱特征化模型所预测的光谱反射比,得到基于新打印环境的预测光谱反射比;

反向打印机光谱特征化模型的修正的步骤如下:

5)选取20-50个基本覆盖打印机色域且不同于训练样本的修正样本,将其光谱反射比作为目标光谱反射比Rtarget,反,通过原反向光谱特征化模型预测相应的墨水配方;

6)在新的打印环境下,通过打印机输出预测的墨水配方而得到修正样本的硬拷贝,并测得复现光谱反射比Rrep

7)采用最小二乘法,分别用,其截距为0的线性方程拟合所有修正样本的Rtarget,反Rrep在各波长的对应关系,并计算得出反向波长修正系数βλ

8)对于任一输入目标光谱反射比,以反向波长修正系数βλ来修正目标光谱反射比Rtarget,反,求得修正后的目标光谱反射比Rtarget,反,并将作为原反向特征化模型的输入目标光谱反射比,再经原反向光谱特征化模型预测在新打印环境下的墨水配方,实现原反向光谱特征化模型在新的打印环境下的准确复现。

本发明通过打印并测量20-50个修正样本以获得相应的波长修正系数,然后再对打印机光谱特征化模型的输入或输出参数进行修正,即可有效地补偿因打印环境变化所造成的打印机光谱特征化模型精度之降低,克服了重新建立特征化模型所造成的浪费与不便。

附图说明

图1是正向打印机光谱特征化模型的修正流程图;

图2是反向打印机光谱特征化模型的修正流程图;

图3是波长400nm的正向波长修正系数计算示意图。

具体实施方式

打印机光谱特征化模型的修正方法包括正向打印机光谱特征化模型的修正和反向打印机光谱特征化模型的修正、其中:

正向打印机光谱特征化模型的修正的步骤如下:

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于浙江大学,未经浙江大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201110042430.6/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top