[发明专利]介质输送单元及具备该介质输送单元的介质处理装置有效
| 申请号： | 201110036466.3 | 申请日： | 2008-04-07 |
| 公开（公告）号： | CN102074253A | 公开（公告）日： | 2011-05-25 |
| 发明（设计）人： | 本间亮 | 申请（专利权）人： | 精工爱普生株式会社 |
| 主分类号： | G11B17/10 | 分类号： | G11B17/10 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 李贵亮 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种介质输送单元及具备其的介质处理装置，其中，保持机构，从叠层状态收容在堆积器中的多个板状的介质中，用于保持所述最上位置的介质。输送臂，支承所述保持机构。在所述升降机构使所述输送臂下降时，从所述保持机构向所述最上位置的介质的上表面，选择性地施加第一按压力及比所述第一按压力大的第二按压力的任一种。 | ||
| 搜索关键词： | 介质 输送 单元 具备 处理 装置 | ||
【主权项】：
一种介质输送单元(31)，其用于从堆积有多个介质的堆积器(21，22，52)输送最上位置的介质(M)，所述介质输送单元包括：以保持所述最上位置的介质(M)的方式起作用的保持机构(130)；设有所述保持机构(130)的能够移动的输送臂(36)；和分离机构(131)，所述分离机构设置在所述输送臂(36)中并包括能够旋转的第一按压杆(182)，其中，所述保持机构(130)被构造成，将第一按压力和大于所述第一按压力的第二按压力中的一个选择性地施加到所述最上位置的介质(M)的上表面，其中，当所述保持机构(130)对收容在保持单个介质的位置的所述最上位置的介质(M)进行保持时，所述保持机构(130)将所述第一按压力施加到所述最上位置的介质(M)的上表面，其中，当所述保持机构(130)对收容在堆积多个介质的位置的所述最上位置的介质(M)进行保持时，所述保持机构(130)将所述第二按压力施加到所述最上位置的介质(M)的上表面，其中，当所述保持机构(130)保持所述最上位置的介质(M)并且所述输送臂(36)向上移动时，所述第一按压杆(182)的作用片(183)与第二介质(M)的中心孔(Ma)的内周面(Mb)接触并使所述第二介质(M)与所述最上位置的介质(M)分离。
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