[发明专利]光致抗蚀剂组合物无效
| 申请号: | 201110035785.2 | 申请日: | 2011-02-01 |
| 公开(公告)号: | CN102193313A | 公开(公告)日: | 2011-09-21 |
| 发明(设计)人: | 安藤信雄;武元一树 | 申请(专利权)人: | 住友化学株式会社 |
| 主分类号: | G03F7/004 | 分类号: | G03F7/004;G03F7/00;G03F7/20 |
| 代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 吴小明 |
| 地址: | 日本国*** | 国省代码: | 日本;JP |
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| 摘要: | 本发明提供一种光致抗蚀剂组合物,所述光致抗蚀剂组合物包含由式(I)表示的化合物和由式(B1)表示的酸生成剂,在式(I)中R1,R2,R3和R4独立地表示氢原子等,X1至X8独立地表示氢原子或由式(II)表示的基团;在式(II)中R11和R12独立地表示氢原子等,m表示1至4的整数,R13表示C1-C6烷基等,并且环Y1表示C3-C20饱和烃环;在式(B1)中Q1和Q2独立地表示氟原子等,Lb1表示C1-C17饱和二价烃基,在所述C1-C17饱和二价烃基中的一个或多个-CH2-可以被-O-或-CO-代替,Y表示C1-C18脂族烃基等,并且Z+表示有机阳离子。 | ||
| 搜索关键词: | 光致抗蚀剂 组合 | ||
【主权项】:
1.一种光致抗蚀剂组合物,所述光致抗蚀剂组合物包含:由式(I)表示的化合物和由式(B1)表示的酸生成剂:
其中R1,R2,R3和R4独立地表示氢原子,C1-C6烷基,C3-C10环烷基,C4-C20环烷基烷基,C6-C20芳基,C7-C20芳烷基或由-OX9表示的基团,并且所述烷基,所述芳基和所述芳烷基的一个或多个氢原子可以被由-OX10表示的基团代替,X1,X2,X3,X4,X5,X6,X7,X8,X9和X10独立地表示氢原子或由式(II)表示的基团:
其中R11和R12独立地表示氢原子或C1-C6烷基,m表示1至4的整数,R13表示C1-C6烷基或C3-C12饱和环状烃基,并且环Y1表示C3-C20饱和烃环,
其中Q1和Q2独立地表示氟原子或C1-C6全氟烷基,Lb1表示单键或C1-C17饱和二价烃基,在所述C1-C17饱和二价烃基中的一个或多个-CH2-可以被-O-或-CO-代替,Y表示C1-C18脂族烃基或C3-C18饱和环状烃基,并且所述脂族烃基和所述饱和环状烃基可以具有一个或多个取代基,并且所述脂族烃基和所述饱和环状烃基中的一个或多个-CH2-可以被-O-,-CO-或-SO2-代替,并且Z+表示有机阳离子。
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