[发明专利]光致抗蚀剂组合物

权利要求书

1.一种光致抗蚀剂组合物，所述光致抗蚀剂组合物包含：由式(I)表示的化合物和由式(B1)表示的酸生成剂：

其中R¹，R²，R³和R⁴独立地表示氢原子，C1-C6烷基，C3-C10环烷基，C4-C20环烷基烷基，C6-C20芳基，C7-C20芳烷基或由-OX⁹表示的基团，并且所述烷基，所述芳基和所述芳烷基的一个或多个氢原子可以被由-OX¹⁰表示的基团代替，X¹，X²，X³，X⁴，X⁵，X⁶，X⁷，X⁸，X⁹和X¹⁰独立地表示氢原子或由式(II)表示的基团：

其中R¹¹和R¹²独立地表示氢原子或C1-C6烷基，m表示1至4的整数，R¹³表示C1-C6烷基或C3-C12饱和环状烃基，并且环Y¹表示C3-C20饱和烃环，

其中Q¹和Q²独立地表示氟原子或C1-C6全氟烷基，L^b1表示单键或C1-C17饱和二价烃基，在所述C1-C17饱和二价烃基中的一个或多个-CH₂-可以被-O-或-CO-代替，Y表示C1-C18脂族烃基或C3-C18饱和环状烃基，并且所述脂族烃基和所述饱和环状烃基可以具有一个或多个取代基，并且所述脂族烃基和所述饱和环状烃基中的一个或多个-CH₂-可以被-O-，-CO-或-SO₂-代替，并且Z⁺表示有机阳离子。

2.根据权利要求1所述的光致抗蚀剂组合物，其中选自由X¹，X²，X³，X⁴，X⁵，X⁶，X⁷和X⁸组成的组中的至少一个是由式(II)表示的基团。

3.根据权利要求1所述的光致抗蚀剂组合物，其中由式(I)表示的化合物的分子量为300至5,000。

4.一种用于制造光致抗蚀剂图案的方法，所述方法包括以下步骤(1)至(5)：

(1)将根据权利要求1、2或3所述的光致抗蚀剂组合物涂覆到基底上的步骤，

(2)通过进行干燥以形成光致抗蚀剂膜的步骤，

(3)将所述光致抗蚀剂膜对辐射曝光的步骤，

(4)将曝光后的光致抗蚀剂膜进行烘焙的步骤，和

(5)用碱性显影液使烘焙后的光致抗蚀剂膜显影，从而形成光致抗蚀剂图案的步骤。

5.根据权利要求1、2或3所述的光致抗蚀剂组合物用于使用电子束光刻系统或远紫外光刻系统制造光致抗蚀剂图案的应用。