[发明专利]一种硼掺杂玻璃炭材料及其制备方法有效
| 申请号： | 201110033224.9 | 申请日： | 2011-01-30 |
| 公开（公告）号： | CN102618841A | 公开（公告）日： | 2012-08-01 |
| 发明（设计）人： | 吴峻峰;白朔;许力;成会明;徐红军;周序科;罗川;周金玉 | 申请（专利权）人： | 中国科学院金属研究所 |
| 主分类号： | C23C16/26 | 分类号： | C23C16/26 |
| 代理公司： | 沈阳科苑专利商标代理有限公司 21002 | 代理人： | 张志伟 |
| 地址： | 110016 辽*** | 国省代码： | 辽宁;21 |
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| 摘要： | 本发明涉及玻璃炭材料领域，具体为一种硼掺杂玻璃炭材料及其化学气相沉积制备方法。利用化学气相共沉积工艺，以石墨作为沉积基体，沉积压力为常压或略高于1atm，沉积温度为1100～1400℃，在达到设定的沉积温度后，同时通入碳源和硼源气体，在高温化学气相沉积炉中实现硼碳共沉积，制备硼掺杂玻璃炭材料中的硼掺杂含量为2～15at.％。本发明可以制备结构均匀致密、具有良好抗氧化性能的硼掺杂玻璃炭材料，表面光滑呈现玻璃状光泽，孔度极小，具有特殊玻璃状断口特征，无生长特征，是各向同性材料。由于该方法利用常规的化学气相沉积设备进行制备，省去了传统玻璃炭的成型、固化、炭化和石墨化等复杂的工序，因此大大缩短玻璃炭的生产周期，降低生产成本。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 掺杂 玻璃 材料 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
一种硼掺杂玻璃炭材料，其特征在于：硼掺杂玻璃炭材料中的硼含量为2～15at.％，其余为玻璃炭。
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
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