[发明专利]半导体清洗液管理装置及方法有效
| 申请号： | 201110033084.5 | 申请日： | 2011-01-30 |
| 公开（公告）号： | CN102208327A | 公开（公告）日： | 2011-10-05 |
| 发明（设计）人： | 郭训容;吴仪;裴立坤;昝威 | 申请（专利权）人： | 北京七星华创电子股份有限公司 |
| 主分类号： | H01L21/00 | 分类号： | H01L21/00;B08B3/00 |
| 代理公司： | 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 | 代理人： | 王莹 |
| 地址： | 100016 北京市*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种半导体清洗液管理装置，包括：储液单元，用于储存清洗液；浓度液位检测单元，用于检测所述储液单元中清洗液的浓度及液位，并将检测到的浓度数据及液位数据传输给所述控制单元；控制单元，用于根据所述浓度数据及液位数据生成相应的控制信号，并将所述控制信号发送给所述执行单元；执行单元，用于根据所述控制信号执行所述储液单元的清洗液的排放、补充所述储液单元的化学药剂、补充所述储液单元的水、更换所述储液单元的清洗液、回收反应腔体的清洗液、以及供液给反应腔体的动作。本发明通过与反应腔体控制装置的结合，实现了对清洗液进行自动管理，并实现了在没有技术人员对清洗液进行管理的情况下，持续的进行清洗工艺。 | ||
| 搜索关键词： | 半导体 清洗 管理 装置 方法 | ||
【主权项】：
一种半导体清洗液管理装置，其特征在于，包括：依次连接的储液单元(1)、浓度液位检测单元(2)、控制单元(3)和执行单元(4)，所述储液单元(1)，用于储存清洗液；所述浓度液位检测单元(2)，用于检测所述储液单元(1)中清洗液的浓度及液位，并将检测到的浓度数据及液位数据传输给所述控制单元(3)；所述控制单元(3)，用于根据所述浓度数据及液位数据生成相应的控制信号，并将所述控制信号发送给所述执行单元(4)；所述执行单元(4)，用于根据所述控制信号执行所述储液单元(1)的清洗液的排放、补充所述储液单元(1)的化学药剂、补充所述储液单元(1)的水、更换所述储液单元(1)的清洗液、回收反应腔体的清洗液、以及供液给反应腔体的动作。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
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