[发明专利]用于陶瓷的多次温度烧制方法无效
| 申请号： | 201110029725.X | 申请日： | 2011-01-27 |
| 公开（公告）号： | CN102190479A | 公开（公告）日： | 2011-09-21 |
| 发明（设计）人： | 蔡世山 | 申请（专利权）人： | 上海高诚艺术包装有限公司 |
| 主分类号： | C04B33/34 | 分类号： | C04B33/34;C04B35/64;C04B41/86 |
| 代理公司： | 上海申汇专利代理有限公司 31001 | 代理人： | 翁若莹 |
| 地址： | 201108 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种用于陶瓷的多次温度烧制方法，包括陶瓷胚体预烧，给胚体表面上彩釉或透明釉，多次高温烧结成型，其中，所述陶瓷胚体中石英砂百分含量低于35％；所述彩釉或透明釉在800～1250℃下进行预烧10小时左右；多次高温烧结成型时，烧结温度从高到低，每次烧结温度跨越20～100℃。本发明提供的用于陶瓷的多次温度烧制方法，通过选用石英砂百分含量低的胚料以及给胚体表面上煅烧过的彩釉或透明釉，并控制多次高温烧成温度，能够形成色彩层次丰富，色泽光亮的彩瓷图案，且不会起泡、脱色、开裂。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 陶瓷 多次 温度 烧制 方法 | ||
【主权项】：
一种用于陶瓷的多次温度烧制方法，包括陶瓷胚体预烧，给胚体表面上彩釉或透明釉，多次高温烧结成型，其特征在于，所述陶瓷胚体中石英砂百分含量低于35％；所述彩釉或透明釉在800～1250℃下进行预烧10小时左右；多次高温烧结成型时，烧结温度从高到低，每次烧结温度跨越20～100℃。
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