[发明专利]一种研磨垫及其制备方法、使用方法有效
| 申请号： | 201110023424.6 | 申请日： | 2011-01-20 |
| 公开（公告）号： | CN102601747A | 公开（公告）日： | 2012-07-25 |
| 发明（设计）人： | 邵群 | 申请（专利权）人： | 中芯国际集成电路制造（上海）有限公司 |
| 主分类号： | B24D13/14 | 分类号： | B24D13/14;B24D18/00 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 骆苏华 |
| 地址： | 201203 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 一种研磨垫，包括：基底和固结在所述基底上的若干分立的磨料块，所述磨料块具有至少两种高度。本发明利用具有至少两种高度的磨料块，使得研磨垫在研磨晶圆的过程中，不会因为长时间的研磨导致研磨速率大幅下降，从而使得晶圆的研磨程度易于精确控制，提高了晶圆研磨的效果及良率。本发明还提供一种制备所述研磨垫的方法，利用该方法可以方便地制备本发明的研磨垫。相应地，本发明还提供应用所述研磨垫进行研磨的使用方法。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 研磨 及其 制备 方法 使用方法 | ||
【主权项】：
一种研磨垫，包括：基底和固结在所述基底上的若干分立的磨料块，其特征在于，所述磨料块具有至少两种高度。
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