[发明专利]镀膜件及其制备方法无效
| 申请号： | 201110006663.0 | 申请日： | 2011-01-13 |
| 公开（公告）号： | CN102586728A | 公开（公告）日： | 2012-07-18 |
| 发明（设计）人： | 张新倍;陈文荣;蒋焕梧;陈正士;李聪 | 申请（专利权）人： | 鸿富锦精密工业（深圳）有限公司;鸿海精密工业股份有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/06 | 分类号： | C23C14/06;C23C14/35 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 518109 广东省深圳市*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明提供一种镀膜件及该镀膜件的制备方法。该镀膜件包括包括基体及形成于基体表面的抗指纹层，该抗指纹层为纳米级碳氮氟层，其化学式为CXN1-XFY，其中0.6≤X≤0.8，0.2≤Y≤0.4。该镀膜件的制备方法包括如下步骤：提供一基体；以石墨靶为靶材，以氮气、四氟化碳气体为反应气体，采用磁控溅射镀膜法在该基体的表面溅镀纳米级CXN1-XFY的抗指纹层，其中0.6≤X≤0.8，0.2≤Y≤0.4。该镀膜件具有良好的抗指纹功能。 | ||
| 搜索关键词： | 镀膜 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
一种镀膜件，其包括一基体及形成于基体表面的抗指纹层，其特征在于：该抗指纹层为纳米级碳氮氟层，其化学式为CXN1‑XFY，其中0.6≤X≤0.8，0.2≤Y≤0.4。
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