[发明专利]镀膜件及其制备方法无效

专利信息
申请号: 201110006663.0 申请日: 2011-01-13
公开(公告)号: CN102586728A 公开(公告)日: 2012-07-18
发明(设计)人: 张新倍;陈文荣;蒋焕梧;陈正士;李聪 申请(专利权)人: 鸿富锦精密工业(深圳)有限公司;鸿海精密工业股份有限公司
主分类号: C23C14/06 分类号: C23C14/06;C23C14/35
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 518109 广东省深圳市*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 镀膜 及其 制备 方法
【说明书】:

技术领域

发明涉及一种镀膜件及其制备方法,尤其涉及一种具有抗指纹功能的镀膜件及该镀膜件的制备方法。

背景技术

传统技术中,早期抗指纹化处理一般是采用在不锈钢的镀锌层上形成铬酸盐层及特殊的树脂层。该方法首先需要在不锈钢板上电镀一层锌,然后施以铬酸盐处理,最后以滚压的方式涂上一层树脂,其工艺繁锁,且需要使用铬酸盐处理,环境污染严重,成本较高。

因此,为避免污染,降低成本,人们开始研究新的抗指纹材料。目前工业上使用较多的是在基体上喷涂一层有机化学物质,如抗指纹涂料和抗指纹油等,通过加热干燥使其附着在基体上。但是这种涂层的制备工艺也较复杂,而且掺杂于抗指纹涂料和抗指纹油中的有些填料还存在游离甲醛等,不利于环保和人体健康。另外,这种有机涂层耐磨性能差,使用一段时间后容易磨损,使得基体被暴露出来,防腐蚀性能大幅下降且影响美观。此外,抗指纹油的使用会使涂层表面看起来很油腻,大大降低了视觉美感。

发明内容

鉴于此,有必要提供一种较为环保的、抗指纹性能佳且效果较为持久的镀膜件。

另外,还有必要提供一种上述镀膜件的制备方法。

一种镀膜件,其包括基体及形成于基体表面的抗指纹层,该抗指纹层为纳米级碳氮氟层,其化学式为CXN1-XFY,其中0.6≤X≤0.8,0.2≤Y≤0.4。

一种镀膜件的制备方法,其包括如下步骤:

提供一基体;

以石墨靶为靶材,以氮气、四氟化碳气体为反应气体,采用磁控溅射镀膜法在该基体的表面溅镀纳米级碳氮氟的抗指纹层,该纳米级碳氮氟的化学式为CXN1-XFY,其中0.6≤X≤0.8,0.2≤Y≤0.4。

相较于现有技术,所述的镀膜件采用磁控溅射镀膜的方法在基体表面形成一纳米级碳氮氟的抗指纹层,该纳米级碳氮氟层的表面能低,可实现较佳的抗指纹功能。另外,所述的抗指纹层以磁控溅射镀膜的方法形成,相较于传统的抗指纹材料,其具有较好的耐磨性,可防止所述抗指纹层被磨损,使得所述的镀膜件的抗指纹功能更持久,外观上也更具有美感。另外,所述镀膜件及其制备方法较为环保。

附图说明

图1是本发明较佳实施方式的镀膜件的剖视示意图。

图2是本发明较佳实施方式的磁控溅射镀膜机的俯视示意图。

主要元件符号说明

镀膜件                  10

基体                    11

抗指纹层                13

磁控溅射镀膜机          20

镀膜室                  21

石墨靶                  23

具体实施方式

请参阅图1,本发明一较佳实施方式的镀膜件10包括基体11及形成于基体11上的抗指纹层13。

基体11的材质可为不锈钢或玻璃。

抗指纹层13为纳米级碳氮氟层,其化学式为CXN1-XFY,其中0.6≤X≤0.8,0.2≤Y≤0.4。该抗指纹层13可以磁控溅射镀膜法形成,如中频磁控溅射镀膜法。该抗指纹层13的厚度为600-900nm。

对所述镀膜件10进行了水油接触角测试,结果显示,所述抗指纹层13与水油混合物的接触角在108-111°之间,证明所述镀膜件10具有良好的抗指纹功能。

本发明较佳实施方式的镀膜件10的制备方法包括如下步骤:

提供基体11,并对该基体11进行清洁前处理。该清洁前处理可包括以下步骤:

依次用去离子水及无水乙醇对基体11表面进行擦拭。

将基体11放入盛装有丙酮溶液的超声波清洗器中进行超声波清洗,以除去基体11表面的杂质和油污等。

对经上述清洁前处理后的基体11的表面进行等离子体清洗,以进一步去除基体11表面的脏污,以及改善基体11表面与后续镀层的结合力。

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