[发明专利]用于制造机电系统的方法

摘要

本申请描述了一种在由机械器件和衬底组成的微机电系统(MEMS)或纳机电系统(NEMS)的氢氟酸蒸汽(VHF)释放过程中避免静摩擦力的方法。在所述衬底与氧化物牺牲层之间和/或在器件层与所述氧化物牺牲层之间，和/或在所述器件层背对所述氧化物牺牲层的一侧上提供氮化硅层，并且在去除牺牲氧化物的一部分的同时，利用VHF将所述氮化硅层转化为更厚的六氟硅酸铵。所述六氟硅酸铵在制作过程中用作限制器件移动的临时的支撑物、垫片、楔状物或系链，并且之后在加热和/或减压下通过升华来去除。

主权项

一种方法，用于制造由机械器件和衬底组成的微机电系统(MEMS)或纳机电系统(NEMS)，所述方法包括：a)在所述机械器件与所述衬底之间沉积牺牲氧化硅；b)在选自由以下位置组成的组中的一个或多个位置提供氮化硅层：i)在所述衬底与所述牺牲氧化硅之间；ii)在所述牺牲氧化硅与所述器件之间；以及iii)在所述器件上；c)在一定条件下引入VHF，以同时i)去除所述牺牲氧化硅的至少一部分；且ii)将所述氮化硅的至少一部分转化为六氟硅酸铵，以提供限制器件移动的临时的支撑物、垫片、楔状物或系链；d)在避免液体形成的压力和温度条件下使所述六氟硅酸铵升华。