[发明专利]涂层装置及涂层方法有效
申请号: | 201080065365.2 | 申请日: | 2010-12-07 |
公开(公告)号: | CN102917781A | 公开(公告)日: | 2013-02-06 |
发明(设计)人: | 梅本健二;细野哲矢;远藤太郎;镰田人志;秋元七央;长谷川浩司 | 申请(专利权)人: | 株式会社保锐士 |
主分类号: | B01J2/12 | 分类号: | B01J2/12;A23P1/08;A61J3/06;B01J2/00;B05D7/00 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 雒运朴 |
地址: | 日本国*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 涂层装置具备:对旋转滚筒(1)的内部的药片层(A)进行拍摄的高速度相机(3);基于高速度相机(3)的摄影数据而算出药片层(A)的药片的流动速度的个人计算机(4);基于个人计算机(4)产生的药片的流动速度的算出值,对旋转滚筒(1)的旋转速度进行控制的控制装置(5)。 | ||
搜索关键词: | 涂层 装置 方法 | ||
【主权项】:
一种涂层装置,其具备旋转滚筒,该旋转滚筒在内部收容有应处理的粉粒体且被驱动绕着轴线旋转,所述涂层装置对所述旋转滚筒的内部的粉粒体层进行处理气体的通气和膜剂液的喷雾,从而在粉粒体粒子的表面形成覆膜,所述涂层装置的特征在于,具备:对所述旋转滚筒的内部的粉粒体层进行拍摄的高速度相机;基于该高速度相机的摄影数据而算出所述粉粒体层的粒子的流动速度的运算处理装置;基于该运算处理装置的算出值,对所述膜剂液的喷雾条件、所述处理气体的通气条件及所述旋转滚筒的旋转速度中的至少一个操作条件进行控制的控制装置。
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