[发明专利]光学成像写入系统有效
| 申请号： | 201080056687.0 | 申请日： | 2010-12-09 |
| 公开（公告）号： | CN102656514A | 公开（公告）日： | 2012-09-05 |
| 发明（设计）人： | T·莱迪格 | 申请（专利权）人： | 派因布鲁克成像系统公司 |
| 主分类号： | G03B27/42 | 分类号： | G03B27/42 |
| 代理公司： | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人： | 酆迅;郑菊 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本发明系关于一种在光刻制程中将光掩膜数据图案施用于基板的系统及方法。在一实施例中，该方法包含下列步骤：提供具有复数个空间光调变器(SLM)成像单元的平行成像写入系统，其中该等SLM成像单元排列成一个或多个平行阵列；接收待写入基版的光掩膜数据图案；处理该光掩膜数据图案，以形成复数个对应于基板不同区域的分区光掩膜数据图案；辨识出基板上一个区域中一个或多个待受对应SLM成像的对象；以及藉由执行多重曝光以将该对象成像于基板的该区域中，而控制该等SLM将该等分区光掩膜数据图案平行写入。 | ||
| 搜索关键词： | 光学 成像 写入 系统 | ||
【主权项】：
一种在光刻制程中处理相邻成像区之间的影像数据的方法，包含下列步骤：提供平行成像写入系统，其中该平行成像写入系统包含复数个空间光调变器(SLM)成像单元，且该等SLM成像单元排列成一个或多个平行阵列；接收待写入基版的光掩膜数据图案；处理该光掩膜数据图案，以形成复数个对应于该基板不同区域的分区光掩膜数据图案；辨识出基板上一个区域中一个或多个待受对应SLM成像的对象；以及藉由控制该等SLM将该等分区光掩膜数据图案平行写入，而执行多重曝光以将该对象成像于基板的该区域中。
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