[发明专利]光学成像写入系统

权利要求书

1.一种在光刻制程中处理相邻成像区之间的影像数据的方法，包含下列步骤：

提供平行成像写入系统，其中该平行成像写入系统包含复数个空间光调变器(SLM)成像单元，且该等SLM成像单元排列成一个或多个平行阵列；

接收待写入基版的光掩膜数据图案；

处理该光掩膜数据图案，以形成复数个对应于该基板不同区域的分区光掩膜数据图案；

辨识出基板上一个区域中一个或多个待受对应SLM成像的对象；以及

藉由控制该等SLM将该等分区光掩膜数据图案平行写入，而执行多重曝光以将该对象成像于基板的该区域中。

2.如权利要求1所述的方法，其中执行多重曝光以将该对象成像的步骤包含：

将对象参照于一个像素格点；

利用该像素格点执行该对象的曝光；

(a)将该像素格点相对于该对象移动预设的增额而到达下一像素格点位置；以及

(b)利用该下一像素格点位置执行该对象的曝光；以及

重复步骤(a)及(b)直到达成目标曝光次数为止。

3.如权利要求2所述的方法，其中利用该像素格点执行该对象的曝光的步骤包含：

填满该对象的内部像素；

根据该像素格点调整边缘像素的曝光；以及

依照各像素位置所接收的曝光剂量，在每一像素位置累积剂量。

4.如权利要求2所述的方法，其中将该像素格点移动预设的增额的步骤包含：

将该像素格点沿水平方向相对于该基板移动非整数数量的像素；以及

将该像素格点沿垂直方向相对于该基板移动非整数数量的像素。

5.如权利要求2所述的方法，其中利用该下一像素格点位置执行该对象的曝光的步骤包含：

辨识出该下一像素格点的第一区域，其中在该第一区域对像素的曝光剂量计算为待移出的像素；

辨识出该下一像素格点的第二区域，其中在该第二区域对像素的曝光剂量从对先前像素格点的计算中取得为重迭像素；以及

辨识出该下一像素格点的第三区域，其中在该第三区域对像素的曝光剂量计算为新移入的像素。

6.如权利要求3所述的方法，其中调整边缘像素的曝光的步骤包含：

根据一部分边缘像素相对于该像素格点的面积调整该部分边缘像素的曝光；

相对于目标曝光剂量程度调整曝光剂量程度；

相对于误差校正量调整曝光剂量程度；以及

调整曝光阈值以建立理想剂量累积函数。

7.如权利要求6所述的方法，其中相对于目标曝光剂量程度调整曝光剂量程度的步骤包含：

将沿该对象边缘选择的各获选评估点的累积剂量与该评估点的目标曝光剂量的分数相比较；

若该累积剂量低于目标曝光剂量的该分数，则在曝光时开启涵盖该评估点的像素；以及

若该累积剂量高于目标曝光剂量的该分数，则在曝光时关闭涵盖该评估点的像素。

8.如权利要求6所述的方法，其进一步包含提供回馈机制以供该成像写入系统适当调整该待成像对象的边界处的成像轮廓，并包含维持该对象边缘处的对应总目标曝光剂量。

9.如权利要求1所述的方法，其中藉由执行多重曝光以将该对象成像的步骤包含：

利用该等SLM中的一个执行像素的多重曝光。

10.如权利要求1所述的方法，其中藉由执行多重曝光以将该对象成像的步骤包含：

利用一组该等SLM执行像素的多重曝光。

11.一种在光刻制程中处理影像数据的系统，包含：

平行成像写入系统，其中该平行成像写入系统包含复数个空间光调变器(SLM)成像单元，且该等SLM成像单元排列成一或多个平行阵列；

用以控制该等SLM成像单元的控制器，其中该控制器包含

逻辑设计用以接收待写入基版的光掩膜数据图案；

逻辑设计用以处理该光掩膜数据图案，以形成复数个对应于该基板不同区域的分区光掩膜数据图案；

逻辑设计用以辨识出基板上一个区域中一个或多个待受对应SLM成像的对象；以及

逻辑设计用以藉由控制该等SLM将该等分区光掩膜数据图案平行写入执行多重曝光以将该对象成像于基板的该区域中。