[发明专利]由定制的掩蔽保护的低复杂度电子电路有效
申请号: | 201080056401.9 | 申请日: | 2010-11-08 |
公开(公告)号: | CN102648600A | 公开(公告)日: | 2012-08-22 |
发明(设计)人: | S·吉耶;J-L·当热 | 申请(专利权)人: | 法国电信教育集团-巴黎电信学院 |
主分类号: | H04L9/06 | 分类号: | H04L9/06 |
代理公司: | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人: | 刘瑜;王英 |
地址: | 法国*** | 国省代码: | 法国;FR |
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摘要: | 本发明的主题是由掩蔽保护的密码电路,所述电路包括用于使用至少一个密钥krc来加密二进制字的模块,用于将线性处理操作(216)和非线性处理操作(226)施加至所述字的模块以及用于掩蔽所述字的模块。通过使用掩码kri在所述非线性处理操作的上游解掩蔽(214)所述二进制字,并且通过使用掩码kr+1i在所述处理操作的下游掩蔽(215)所述二进制字,所述掩码kri和kr+1i选自特定于所述电路的每个实例的一组掩码。 | ||
搜索关键词: | 定制 掩蔽 保护 复杂度 电子电路 | ||
【主权项】:
一种由掩蔽保护的密码电路,所述电路包括用于使用至少一个密钥krc来加密二进制字的模块、用于将线性处理操作(216)和非线性处理操作(226)施加至所述字的模块、用于掩蔽所述字的模块,所述电路的特征在于:通过使用掩码kri在所述非线性处理操作的上游解掩蔽(214)所述二进制字,并且通过使用掩码kr+1i在所述非线性处理操作的下游掩蔽(215)所述二进制字,所述掩码kri和kr+1i形成特定于所述电路的每个实例的一组掩码的一部分。
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