[发明专利]盖、治疗装置和该装置的使用方法有效
| 申请号： | 201080053554.8 | 申请日： | 2010-11-23 |
| 公开（公告）号： | CN102753236A | 公开（公告）日： | 2012-10-24 |
| 发明（设计）人： | T·皮舒 | 申请（专利权）人： | 泰拉克利昂公司 |
| 主分类号： | A61N7/02 | 分类号： | A61N7/02;A61B18/00;A61B17/225;A61B17/00 |
| 代理公司： | 北京泛华伟业知识产权代理有限公司 11280 | 代理人： | 蔡民军 |
| 地址： | 法国*** | 国省代码： | 法国;FR |
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| 摘要： | 本发明提供一种特别用于高强度聚焦超声头的盖构件，该盖构件包括：周边外壁；构造成部分遮盖超声头的开口第一侧；以及闭合第二侧，该闭合第二侧包括适于与患者的皮肤接触的柔性膜，其特征在于，该盖构件能够可移除地附连至所述超声探针的尖端。 | ||
| 搜索关键词： | 治疗 装置 使用方法 | ||
【主权项】：
一种用于高强度聚焦超声头的盖构件（1），所述盖构件包括：尺寸稳定的周边外壁（14）；构造成部分遮盖超声头（2）的开口第一侧（15）；以及闭合第二侧（16），所述闭合第二侧包括柔性膜（5）以用于与患者的皮肤接触，所述盖构件（1）设置有连接装置以用于能移除地附连至所述超声探针（2）的尖端，其特征在于，所述膜（5）以使高强度聚焦超声波的吸收最小化的方式构造。
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