[发明专利]微光刻投射曝光装置中的光学布置有效
| 申请号： | 201080052699.6 | 申请日： | 2010-09-23 |
| 公开（公告）号： | CN102640056A | 公开（公告）日： | 2012-08-15 |
| 发明（设计）人： | A.舍帕克;H-J.曼;F.艾瑟特;关彦彬 | 申请（专利权）人： | 卡尔蔡司SMT有限责任公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03B7/02;G02B7/182 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 邱军 |
| 地址： | 德国*** | 国省代码： | 德国;DE |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明关于一种微光刻投射曝光装置中的光学布置，其包括至少一个光学元件(110,210)和用于光学元件(110,210)的支撑元件(120,220)，其中光学元件(110,210)和支撑元件(120,220)通过至少三个解耦元件(131,132,133;231,232,233)连接在一起；并且其中解耦元件(131,132,133;231,232,233)与光学元件(110,210)和支撑元件(120,220)整体地形成。 | ||
| 搜索关键词： | 微光 投射 曝光 装置 中的 光学 布置 | ||
【主权项】：
一种微光刻投射曝光装置中的光学布置，包括：至少一个光学元件(110，210)；以及支撑元件(120，220)，用于所述光学元件(110，210)，其中所述光学元件(110，210)和所述支撑元件(120，220)通过至少三个解耦元件(131，132，133；231，232，233)连接在一起；并且其中所述解耦元件(131，132，133；231，232，233)与所述光学元件(110，210)和所述支撑元件(120，220)整体地形成。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于卡尔蔡司SMT有限责任公司，未经卡尔蔡司SMT有限责任公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201080052699.6/，转载请声明来源钻瓜专利网。
