[发明专利]微光刻投射曝光装置中的光学布置

权利要求书

1.一种微光刻投射曝光装置中的光学布置，包括：

至少一个光学元件(110，210)；以及

支撑元件(120，220)，用于所述光学元件(110，210)，

其中所述光学元件(110，210)和所述支撑元件(120，220)通过至少三个解耦元件(131，132，133；231，232，233)连接在一起；并且

其中所述解耦元件(131，132，133；231，232，233)与所述光学元件(110，210)和所述支撑元件(120，220)整体地形成。

2.如权利要求1所述的光学布置，其特征在于：所述支撑元件(120，220)通过安装元件连接到所述投射曝光装置的载体结构，其中所述安装元件设置成相对于所述解耦元件(131-133；231-233)而在周向上移位。

3.如权利要求1或2所述的光学布置，其特征在于：所述光学元件(110，210，310，410)具有的最大直径对最大厚度的比例至少为10，尤其至少为15，更尤其至少为20。

4.一种微光刻投射曝光装置中的光学布置，包括：

载体结构；

至少一个光学元件(310，410)；以及

支撑元件(320，420)，在至少三个接合位置(331，332，333)附接到所述光学元件(310，410)，

其中所述支撑元件(320，420)通过安装元件连接到所述载体结构；

其中所述安装元件设置成相对于所述接合位置(331，332，333)在周向上移位；以及

其中所述光学元件(110，210，310，410)具有的最大直径对最大厚度的比例至少为10。

5.如权利要求4所述的光学布置，其特征在于：所述光学元件(110，210，310，410)具有的最大直径对最大厚度的比例至少为15，尤其至少为20。

6.如前述权利要求中任一项所述的光学布置，其特征在于：所述解耦元件(131－133；231－233)或所述接合位置(331，332，333)分别设置成在周向上彼此相隔基本上恒定的间距。

7.如权利要求2至6中任一项所述的光学布置，其特征在于：相对于所述解耦元件(131－133；231－233)或所述接合位置(331，332，333)，所述安装元件分别设置成在周向上彼此相隔基本上恒定的间距。

8.如前述权利要求中任一项所述的光学布置，其特征在于：所述解耦元件(131－133；231－233)或所述接合位置(331，332，333)分别相对于彼此在周向上移位120°±30°、尤其是120°±20°、更尤其是120°±10°的角度。

9.如权利要求2至8中任一项所述的光学布置，其特征在于：所述安装元件相对于所述解耦元件(131－133；231－233)或所述接合位置(331，332，333)分别在周向上移位60°±20°、尤其是60°±10°、更尤其是60°±3°的角度。

10.如前述权利要求中任一项所述的光学布置，其特征在于：所述支撑元件(120，220，320，420)通过刚好三个解耦元件或接合位置(331，332，333)连接到所述光学元件(110，210，310，410)。

11.如权利要求2至10中任一项所述的光学布置，其特征在于：所述安装元件构造成为所述光学元件(110，210，310，410)提供静态确定的安装座。

12.如权利要求4至11中任一项所述的光学布置，其特征在于：所述光学元件(310，410)和所述支撑元件(320，420)由具有彼此不同的热膨胀系数的材料所形成。

13.如权利要求1至11中任一项所述的光学布置，其特征在于：所述光学元件(110，210，310，410)和所述支撑元件(120，220，320，420)由相同材料所形成。

14.如前述权利要求中任一项所述的光学布置，其特征在于：所述光学元件(110，210，310，410)和所述支撑元件(120，220，320，420)由热膨胀系数小于0.5ppm/K的材料所形成，尤其由石英玻璃(SiO2)、或所形成。