[发明专利]催化剂赋予溶液以及使用其的非电解镀敷方法及直接镀敷方法有效
| 申请号: | 201080046926.4 | 申请日: | 2010-08-05 |
| 公开(公告)号: | CN102597319A | 公开(公告)日: | 2012-07-18 |
| 发明(设计)人: | 山本久光;石田哲司 | 申请(专利权)人: | 上村工业株式会社 |
| 主分类号: | C23C18/18 | 分类号: | C23C18/18;C25D5/54;H05K3/18 |
| 代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人: | 李帆 |
| 地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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| 摘要: | 本发明提供一种对包含绝缘性部分的被镀物的该绝缘性部分实施镀敷用的催化剂赋予溶液,其特征在于,含有水溶性钯化合物、还原剂、分散剂、儿茶酚、铜氧化防止剂及缓冲剂,且pH值为4以上,若与Pd-Sn胶体溶液相比,具有如下优点:由于是不含有Sn的Pd单独的胶体溶液,因此无需预浸处理和Sn去除处理,可简化催化剂赋予处理,由于pH值为4以上,因此不产生白圈,由于利用催化剂赋予溶液中的还原剂而处于还原气氛,铜表面不被氧化,不产生铜溶解,因此,不引起钯置换反应。 | ||
| 搜索关键词: | 催化剂 赋予 溶液 以及 使用 电解 方法 直接 | ||
【主权项】:
一种催化剂赋予溶液,其是用于对包含绝缘性部分的被镀物的该绝缘性部分实施镀敷的催化剂赋予溶液,其特征在于,含有下述成分:(A)水溶性钯化合物、(B)还原剂、(C)分散剂、(D)儿茶酚、(E)铜氧化防止剂,及(F)缓冲剂,且pH值为4以上。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C18-00 通过液态化合物分解抑或覆层形成化合物溶液分解、且覆层中不留存表面材料反应产物的化学镀覆
C23C18-02 .热分解法
C23C18-14 .辐射分解法,例如光分解、粒子辐射
C23C18-16 .还原法或置换法,例如无电流镀
C23C18-54 .接触镀,即无电流化学镀
C23C18-18 ..待镀材料的预处理
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C18-00 通过液态化合物分解抑或覆层形成化合物溶液分解、且覆层中不留存表面材料反应产物的化学镀覆
C23C18-02 .热分解法
C23C18-14 .辐射分解法,例如光分解、粒子辐射
C23C18-16 .还原法或置换法,例如无电流镀
C23C18-54 .接触镀,即无电流化学镀
C23C18-18 ..待镀材料的预处理





