[发明专利]用于微光刻的照明光学单元无效
申请号: | 201080043764.9 | 申请日: | 2010-09-27 |
公开(公告)号: | CN102549461A | 公开(公告)日: | 2012-07-04 |
发明(设计)人: | D.菲奥尔卡;R.施图茨尔 | 申请(专利权)人: | 卡尔蔡司SMT有限责任公司 |
主分类号: | G02B5/30 | 分类号: | G02B5/30;G21K1/00;G03F7/20 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人: | 邱军 |
地址: | 德国*** | 国省代码: | 德国;DE |
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摘要: | 一种包括反射镜聚光器的照明光学单元,在该照明光学单元工作期间,该反射镜聚光器产生施加到第一分面光学元件的偏振分布,其中存在至少两个施加了具有不同偏振的辐射的第一分面元件,并且第一分面光学元件具有至少一个第一状态,在第一状态中,选择第一分面元件的反射表面的法向矢量,使得在该照明光学单元工作期间,在物场的位置处产生第一预定偏振分布。 | ||
搜索关键词: | 用于 微光 照明 光学 单元 | ||
【主权项】:
一种用于EUV微光刻的照明光学单元(3),所述照明光学单元(3)包括反射镜聚光器(5,905)和第一分面光学元件(7,207,407,707,807),所述第一分面光学元件具有用于照明物平面(23)中的物场(21)的多个第一分面元件(9,209,409,709,809,861,863),其中每个第一分面元件(9,209,409,709,809,861,863)具有反射表面,所述反射表面的法向矢量的方向确定所述反射表面的空间取向,其特征在于:所述反射镜聚光器(5,905)产生偏振分布,在所述照明光学单元(3)工作期间,所述偏振分布被施加到所述第一分面光学元件(7,207,407,707,807),并且存在至少两个被施加了具有不同偏振的辐射的第一分面元件(9,209,409,709,809,861,863),其中所述第一分面光学元件(7,207,407,707,807)具有至少一个第一状态,在所述第一状态中,选择所述第一分面元件(9,209,409,709,809,861,863)的反射表面的法向矢量,使得在所述照明光学单元(3)的工作期间,所述物场(21)的位置处产生第一预定偏振分布。
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