[发明专利]用于微光刻的照明光学单元

权利要求书

1.一种用于EUV微光刻的照明光学单元(3)，所述照明光学单元(3)包括反射镜聚光器(5，905)和第一分面光学元件(7，207，407，707，807)，所述第一分面光学元件具有用于照明物平面(23)中的物场(21)的多个第一分面元件(9，209，409，709，809，861，863)，

其中每个第一分面元件(9，209，409，709，809，861，863)具有反射表面，所述反射表面的法向矢量的方向确定所述反射表面的空间取向，其特征在于：

所述反射镜聚光器(5，905)产生偏振分布，在所述照明光学单元(3)工作期间，所述偏振分布被施加到所述第一分面光学元件(7，207，407，707，807)，并且存在至少两个被施加了具有不同偏振的辐射的第一分面元件(9，209，409，709，809，861，863)，

其中所述第一分面光学元件(7，207，407，707，807)具有至少一个第一状态，在所述第一状态中，选择所述第一分面元件(9，209，409，709，809，861，863)的反射表面的法向矢量，使得在所述照明光学单元(3)的工作期间，所述物场(21)的位置处产生第一预定偏振分布。

2.如权利要求1所述的照明光学单元，其特征在于：

所述反射镜聚光器(5，905)产生的并且在所述照明光学单元(3)工作期间施加到所述第一分面光学元件(7，207，407，707，807)的偏振分布不同于所述物场(21)的位置处的所述预定偏振分布。

3.如权利要求1或2所述的照明光学单元，其特征在于：在所述物场(21)的至少两个位置处，所述第一预定偏振分布不同。

4.如权利要求1-3中的任一项所述的照明光学单元，其特征在于：在所述物场(21)的至少一个位置处，所述第一预定偏振分布是切向偏振分布。

5.如权利要求1-4中的任一项所述的照明光学单元，其特征在于：在所述物场(21)的至少一个位置处，入射辐射的角度分布具有双极形式，并且在此位置处的偏振分布使得在每个极处主偏振方向垂直于主双极轴。

6.如权利要求1-5中的任一项所述的照明光学单元，其特征在于：

为了所述第一分面元件(9，209，409，709，809，861，863)的成像叠加到所述物场上，所述照明光学单元(3)包括具有第二分面元件(13，213，513，613，655，813)的第二分面光学元件(11，211，511，611，811)。

7.一种用于EUV微光刻的照明光学单元(3)，所述照明光学单元(3)包括反射镜聚光器(5，905)以及第一分面光学元件(7，207，407，707，807)，所述第一分面光学元件具有用于照明物平面(23)中的物场(21)的多个第一分面元件(9，209，409，709，809，861，863)，其中每个第一分面元件(9，209，409，709，809，861，863)具有反射表面，所述反射表面的法向矢量的方向确定所述反射表面的空间取向，并且所述照明光学单元(3)还包括具有第二分面元件的第二分面光学元件(11，211，511，611，811)，所述第二分面元件用于将所述第一分面元件(9，209，409，709，809，861，863)的成像叠加到所述物场(21)上，其特征在于：

所述聚光器反射镜(5，905)产生偏振分布，在所述照明光学单元(3)工作期间，所述偏振分布被施加到所述第一分面光学元件(7，207，407，707，807)，并且存在至少两个被施加了具有不同偏振的辐射的第一分面元件(9，209，409，709，809，861，863)，

其中所述第一分面光学元件(7，207，407，707，807)具有至少一个第一状态，在所述第一状态中，选择所述第一分面元件(9，209，409，709，809，861，863)的反射表面的法向矢量，使得在所述照明光学单元(3)工作期间，在所述第二分面光学元件(11，211，511，611，811)上产生第一预定偏振分布。

8.如权利要求7所述的照明光学单元，其特征在于所述第一预定偏振分布是切向偏振分布。

9.如权利要求8所述的照明光学单元，其特征在于所述辐射在切向的主偏振方向上的比例从所述第二分面光学元件(553)的中心向外增加。