[发明专利]光学元件的制造方法无效
| 申请号： | 201080038432.1 | 申请日： | 2010-09-15 |
| 公开（公告）号： | CN102483555A | 公开（公告）日： | 2012-05-30 |
| 发明（设计）人： | 森川显洋;水内公典 | 申请（专利权）人： | 松下电器产业株式会社 |
| 主分类号： | G02F1/37 | 分类号： | G02F1/37 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人： | 张鑫 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种光学元件的制造方法，包括：电极形成工序，该电极形成工序在铁电体基板的+Z面和-Z面上形成金属膜，以制作电极；周期电极形成工序，该周期电极形成工序将形成于所述+Z面的所述金属膜形成为周期电极；极化反转形成工序，该极化反转形成工序在所述周期电极与所述-Z面的电极之间施加电压，以在所述铁电体基板的内部形成极化反转区域；表面处理工序，该表面处理工序去除所述电极、所述周期电极、及所述铁电体基板的+Z面和-Z面的表面层；以及退火工序，该退火工序对去除了所述表面层的铁电体基板施加规定的热。 | ||
| 搜索关键词： | 光学 元件 制造 方法 | ||
【主权项】：
一种光学元件的制造方法，其特征在于，包括：电极形成工序，该电极形成工序在铁电体基板的+Z面和‑Z面上形成金属膜，以制作电极；周期电极形成工序，该周期电极形成工序将形成于所述+Z面的所述金属膜形成为周期电极；极化反转形成工序，该极化反转形成工序在所述周期电极与所述‑Z面的电极之间施加电压，以在所述铁电体基板的内部形成极化反转区域；表面处理工序，该表面处理工序去除所述电极、所述周期电极、及所述铁电体基板的+Z面和‑Z面的表面层；以及退火工序，该退火工序对去除了所述表面层的铁电体基板施加规定的热。
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