[发明专利]用于执行等离子体约束的多外围环装置

摘要

本发明提供了用于在衬底的处理过程中在处理室内执行等离子体约束的装置。所述装置包括被设置为紧靠第二外围环的第一外围环。所述第一外围环包围用于蚀刻衬底的等离子体的受约束的容积腔。所述第一外围环包括用于从所述受约束的容积腔排出处理后副产品气体的第一多个槽。所述第二外围环包括被设置为紧靠所述第一多个槽的第二多个槽，使得所述第二多个槽不与所述第一多个槽重叠，从而阻止从所述受约束的容积腔内到外部容积腔(第一外围环外面的区域)的直视线路。所述装置还包括连接到两个环的歧管，以提供用于从所述受约束的容积腔排出所述处理后副产品气体的路线。

主权项

用于在等离子体处理系统的处理室内在衬底处理过程中执行等离子体约束的装置，包括：第一外围环，其被配置为至少用于包围受约束的容积腔，其中所述受约束的容积腔被配置为用于在衬底处理过程中维持用于蚀刻所述衬底的等离子体，所述第一外围环包括第一多个槽，其中所述第一多个槽被配置为至少用于在所述衬底处理过程中从所述受约束的容积腔排出处理后副产品气体；第二外围环，其中所述第二外围环被设置为紧靠所述第一外围环，所述第二外围环包括第二多个槽，其中所述第二多个槽的第一槽被设置为紧靠所述第一多个槽的第一槽，使得所述第二多个槽的所述第一槽不与所述第一多个槽的所述第一槽重叠，从而阻止从所述受约束的容积腔内到外部容积腔的直视线路，其中所述外部容积腔是所述第一外围环外面的区域；以及歧管，其将所述第一外围环连接到所述第二外围环，其中所述歧管被配置为至少用于提供将所述处理后副产品气体从所述受约束的容积腔排出的路线。