[发明专利]作为NK3受体拮抗剂的吡咯烷衍生物有效

专利信息
申请号: 201080037451.2 申请日: 2010-08-20
公开(公告)号: CN102482259A 公开(公告)日: 2012-05-30
发明(设计)人: 菲利普·雅布隆斯基;亨纳·努斯特;马蒂亚斯·内特科文;安热莉克·帕蒂尼-亚当;哈萨内·拉特尼;克劳斯·里默尔 申请(专利权)人: 霍夫曼-拉罗奇有限公司
主分类号: C07D401/14 分类号: C07D401/14;C07D413/14;A61K31/4545;A61K31/497;A61K31/501;A61K31/506;A61P25/16;A61P25/18;A61P25/24;A61P29/00
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 王旭;贺卫国
地址: 瑞士*** 国省代码: 瑞士;CH
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摘要: 发明涉及式(I)化合物,其中R1是氢或低级烷基;R2是氢,低级烷基,被卤素取代的低级烷基,或者是卤素或CN,并且如果o为2,则可以是相互独立的;Ar1是芳基或杂芳基;Ar2是芳基或杂芳基;R’/R”相互独立地是氢,低级烷基,低级烷氧基,卤素,C(O)-低级烷基,氰基或被卤素取代的低级烷基;m是0,1,或2,条件是n是0;或m是0或1,条件是n是1;n是0或1;o是1或2;或者涉及其药物活性盐,外消旋混合物,对映异构体,光学异构体或互变异构形式。已经发现本发明化合物是高潜力的NK-3受体拮抗剂,用于治疗抑郁,疼痛,精神病,帕金森病,精神分裂症,焦虑和注意缺陷多动障碍(ADHD)。
搜索关键词: 作为 nk3 受体 拮抗剂 吡咯烷 衍生物
【主权项】:
1.一种式I化合物:其中R1是氢或低级烷基;R2是氢,低级烷基,被卤素取代的低级烷基,或者是卤素或CN,并且如果o为2,则可以是相互独立的;Ar1是芳基或杂芳基;Ar2是芳基或杂芳基;R’/R”相互独立地是氢,低级烷基,低级烷氧基,卤素,C(O)-低级烷基,氰基或被卤素取代的低级烷基;m是0,1,或2,条件是n是0;或m是0或1,条件是n是1;n是0或1;o是1或2;或其药物活性盐,外消旋混合物,对映异构体,光学异构体或互变异构形式。
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