[发明专利]具有改善的机械隔离和组装性的线性离子处理设备无效

专利信息
申请号: 201080033816.4 申请日: 2010-07-23
公开(公告)号: CN102473580A 公开(公告)日: 2012-05-23
发明(设计)人: 伯特·大卫·埃格雷;奥古斯特·斯佩特;肯尼思·牛顿;戴夫·德福德 申请(专利权)人: 安捷伦科技有限公司
主分类号: H01J49/42 分类号: H01J49/42
代理公司: 北京东方亿思知识产权代理有限责任公司 11258 代理人: 李剑
地址: 美国加利*** 国省代码: 美国;US
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摘要: 发明涉及具有改善的机械隔离和组装性的线性离子处理设备,一种离子处理设备包括多个电极、第一和第二绝缘体、壳体和多个柔性第一支撑体和第二支撑体。每个主电极具有沿所述中心轴的轴向长度,并包括第一端区域和轴向相对的第二端区域。第一和第二绝缘体分别围绕第一和第二端区域同轴布置。壳体围绕电极、第一绝缘体和第二绝缘体同轴布置。第一支撑体在第一绝缘体和壳体之间延伸并与之接触。第二支撑体在第二绝缘体和壳体之间延伸并与之接触。支撑体将电极与外力隔离。
搜索关键词: 具有 改善 机械 隔离 组装 线性 离子 处理 设备
【主权项】:
一种离子处理设备,包括:围绕中心轴线同轴地布置的多个主电极,每个主电极具有大致沿所述中心轴线的方向延伸的轴向长度,每个主电极包括第一端区域和在轴向上相对的第二端区域;第一绝缘体,其围绕所述第一端区域同轴地布置;第二绝缘体,其围绕所述第二端区域同轴地布置;壳体,其围绕所述多个主电极、所述第一绝缘体和所述第二绝缘体同轴地布置;多个柔性第一支撑体,其在所述第一绝缘体与所述壳体之间延伸并与所述第一绝缘体和所述壳体接触;以及多个柔性第二支撑体,其在所述第二绝缘体与所述壳体之间延伸并与所述第二绝缘体和所述壳体接触。
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