[发明专利]具有改善的机械隔离和组装性的线性离子处理设备

权利要求书

1.一种离子处理设备，包括：

围绕中心轴线同轴地布置的多个主电极，每个主电极具有大致沿所述中心轴线的方向延伸的轴向长度，每个主电极包括第一端区域和在轴向上相对的第二端区域；

第一绝缘体，其围绕所述第一端区域同轴地布置；

第二绝缘体，其围绕所述第二端区域同轴地布置；

壳体，其围绕所述多个主电极、所述第一绝缘体和所述第二绝缘体同轴地布置；

多个柔性第一支撑体，其在所述第一绝缘体与所述壳体之间延伸并与所述第一绝缘体和所述壳体接触；以及

多个柔性第二支撑体，其在所述第二绝缘体与所述壳体之间延伸并与所述第二绝缘体和所述壳体接触。

2.如权利要求1所述的离子处理设备，还包括：

分别接触相应的第一支撑体和主电极的多个第一销钉，其中，所述多个第一销钉分别固定所述第一支撑体和所述第一绝缘体相对于所述主电极的位置；以及

分别接触相应的第二支撑体和主电极的多个第二销钉，其中，所述多个第二销钉分别固定所述第二支撑体和所述第二绝缘体相对于所述主电极的位置。

3.如权利要求2所述的离子处理设备，其中，每个电极包括处于所述第一端区域的第一电极孔和处于所述第二端区域的第二电极孔，每个第一销钉与相应的第一电极孔配合，每个第二销钉与相应的第二电极孔配合。

4.如权利要求2所述的离子处理设备，其中：

每个主电极包括处于所述第一端区域的第一电极孔和处于所述第二端区域的第二电极孔；

所述第一绝缘体包括与相应的第一电极孔对准的多个第一绝缘体钻孔；

所述第二绝缘体包括与相应的第二电极孔对准的多个第二绝缘体钻孔；

每个第一支撑体包括与相应的第一绝缘体钻孔和第一电极孔对准的第一支撑体钻孔；

每个第二支撑体包括与相应的第二绝缘体钻孔和第二电极孔对准的第二支撑体钻孔；

每个第一销钉延伸穿过相应的第一支撑体钻孔和第一绝缘体钻孔，并延伸到第一电极孔中；并且

每个第二销钉延伸穿过相应的第二支撑体钻孔和第二绝缘体钻孔，并延伸到第二电极孔中。

5.如权利要求1所述的离子处理设备，其中：

所述第一支撑体在所述第一绝缘体和外壳体之间沿相对于所述中心轴线的相应的第一径向方向延伸，所述第二支撑体在所述第二绝缘体和所述外壳体之间沿相对于所述中心轴线的相应的第二径向方向延伸；

所述第一绝缘体与相应的主电极沿各个第一径向方向分开第一间隙；并且

所述第二绝缘体与相应的主电极沿各个第二径向方向分开第二间隙。

6.如权利要求5所述的离子处理设备，其中，所述第一间隙和所述第二间隙被胶粘剂填充。

7.如权利要求5所述的离子处理设备，其中：

每个第一间隙具有沿相应的第一径向方向的第一间隙距离，每个第二间隙具有沿相应的第二径向方向的第二间隙距离，每个主电极包括第一电极孔和第二电极孔，还包括：

多个第一销钉，每个第一销钉分别接触相应的第一支撑体，延伸穿过相应的第一间隙，并且插入相应的第一电极孔达第一插入距离，其中，所述第一插入距离控制所述第一间隙距离；以及

多个第二销钉，每个第二销钉分别接触相应的第二支撑体，延伸穿过相应的第二间隙，并且插入相应的第二电极孔达第二插入距离，其中，所述第二插入距离控制所述第二间隙距离。