[发明专利]具有带垂直磁化取向的基准层的磁性叠层有效

专利信息
申请号: 201080032404.9 申请日: 2010-07-08
公开(公告)号: CN102473450A 公开(公告)日: 2012-05-23
发明(设计)人: Z·袁凯;G·郑;Z·文忠;J·文俊;X·海文 申请(专利权)人: 希捷科技有限公司
主分类号: G11C11/16 分类号: G11C11/16;H01L43/08
代理公司: 上海专利商标事务所有限公司 31100 代理人: 钱慰民
地址: 美国明*** 国省代码: 美国;US
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摘要: 一种磁性单元(10)包括具有自由磁化取向(MF)的铁磁性自由层(18)以及具有第一基准磁化取向(MR1)的第一铁磁性钉扎基准层(14),该第一基准磁化取向(MR1)平行于或逆平行于自由磁化取向。第一氧化物阻挡层(16)位于铁磁性自由层和第一铁磁性钉扎基准层之间。磁性单元还包括具有第二基准磁化取向(MR2)的第二铁磁性钉扎基准层(13),该第二基准磁化取向(MR2)垂直于第一基准磁化取向。铁磁性自由层位于第一铁磁性钉扎基准层和第二铁磁性钉扎基准层之间。
搜索关键词: 具有 垂直 磁化 取向 基准 磁性
【主权项】:
一种磁性单元,包括:具有自由磁化取向的铁磁性自由层;第一铁磁性钉扎基准层,所述第一铁磁性钉扎基准层具有与所述自由磁化取向平行或逆平行的第一基准磁化取向;位于所述铁磁性自由层和所述第一铁磁性钉扎基准层之间的第一氧化物阻挡层;以及第二铁磁性钉扎基准层,所述第二铁磁性钉扎基准层具有与所述第一基准磁化取向垂直的第二基准磁化取向,所述铁磁性自由层位于所述第一铁磁性钉扎基准层和所述第二铁磁性钉扎基准层之间。
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