[发明专利]III族氮化物半导体光元件、外延衬底有效

专利信息
申请号: 201080031731.2 申请日: 2010-07-13
公开(公告)号: CN102474076A 公开(公告)日: 2012-05-23
发明(设计)人: 善积祐介;盐谷阳平;秋田胜史;上野昌纪;京野孝史;中村孝夫 申请(专利权)人: 住友电气工业株式会社
主分类号: H01S5/343 分类号: H01S5/343;H01L21/28
代理公司: 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 代理人: 王海川;穆德骏
地址: 日本大阪*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明提供包含低电阻化的p型氮化镓基半导体层的III族氮化物半导体光元件。支撑体13的主面13a相对于基准平面Sc形成40度以上且140度以下的角度ALPHA,基准平面Sc正交于在该III族氮化物半导体的c轴的方向上延伸的基准轴Cx。主面13a显示出半极性及无极性中的任一种。n型GaN基半导体层15设置在支撑体13的主面13a上。n型GaN基半导体层15、有源层19及p型GaN基半导体层17排列在法线轴Nx的方向上。p型GaN基半导体层17中添加有镁作为p型掺杂剂,p型GaN基半导体层17含有碳作为p型掺杂剂。p型GaN基半导体层17的碳浓度为2×1016cm-3以上且1×1019cm-3以下。
搜索关键词: iii 氮化物 半导体 元件 外延 衬底
【主权项】:
一种III族氮化物半导体光元件,其中,包括:支撑体,其包含III族氮化物半导体,且具有相对于与基准轴正交的基准平面形成有限角度的主面,所述基准轴在该III族氮化物半导体的c轴方向上延伸,n型氮化镓基半导体层,其设置在所述支撑体的所述主面上,p型氮化镓基半导体层,其设置在所述支撑体的所述主面上,且添加有镁,和有源层,其在所述支撑体的所述主面上,设置在所述n型氮化镓基半导体层与所述p型氮化镓基半导体层之间;且所述有限角度在40度以上且140度以下的范围内,所述主面显示出半极性及无极性中的任一种,所述p型氮化镓基半导体层含有碳作为p型掺杂剂,所述p型氮化镓基半导体层的碳浓度为2×1016cm‑3以上,所述p型氮化镓基半导体层的碳浓度为1×1019cm‑3以下。
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