[发明专利]曝光设备、曝光方法和器件制造方法有效
| 申请号： | 201080026021.0 | 申请日： | 2010-04-23 |
| 公开（公告）号： | CN102460303A | 公开（公告）日： | 2012-05-16 |
| 发明（设计）人： | 畑田仁志 | 申请（专利权）人： | 株式会社尼康 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 朱胜;苗迎华 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 一种用于利用掩模的图案的图像来曝光板的曝光方法，包括：使掩模沿着X方向往复运动，将掩模的移动和板的向+X方向的移动同步，在往复运动的掩模在+X方向上移动的第一时间段期间，将掩模的第一图案的图像作为相对于+X方向的正像投影到板上，并在往复运动的掩模在-X方向上移动的第二时间段期间，将掩模的第二图案的图像作为相对于+X方向的倒像投影到板上。 | ||
| 搜索关键词： | 曝光 设备 方法 器件 制造 | ||
【主权项】：
一种曝光方法，用于将掩模的图案的图像投影到衬底上并曝光所述衬底，所述方法包括：使所述掩模沿着第一方向往复运动；将所述掩模的移动和所述衬底的沿着所述衬底的表面向第二方向的移动同步；在往复运动的所述掩模向所述第一方向的一侧移动的第一时间段期间，将所述掩模的第一图案的图像作为相对于所述第二方向的正像投影到所述衬底上；以及在往复运动的所述掩模向所述第一方向的另一侧移动的第二时间段期间，将所述掩模的第二图案的图像作为相对于所述第二方向的倒像投影到所述衬底上。
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