[发明专利]曝光设备、曝光方法和器件制造方法

权利要求书

1.一种曝光方法，用于将掩模的图案的图像投影到衬底上并曝光所述衬底，所述方法包括：

使所述掩模沿着第一方向往复运动；

将所述掩模的移动和所述衬底的沿着所述衬底的表面向第二方向的移动同步；

在往复运动的所述掩模向所述第一方向的一侧移动的第一时间段期间，将所述掩模的第一图案的图像作为相对于所述第二方向的正像投影到所述衬底上；以及

在往复运动的所述掩模向所述第一方向的另一侧移动的第二时间段期间，将所述掩模的第二图案的图像作为相对于所述第二方向的倒像投影到所述衬底上。

2.根据权利要求1所述的曝光方法，其中，

用于在所述第一时间段期间曝光所述衬底的光学路径与用于在所述第二时间段期间曝光所述衬底的光学路径至少部分地不同。

3.根据权利要求2所述的曝光方法，

其中，通过将所述掩模上的第一照明区域或不同的第二照明区域内的图案的图像投影到所述衬底的曝光区域上，来执行所述衬底的曝光，

所述曝光方法包括：

在所述第一时间段期间打开和关闭所述掩模的所述第一照明区域或所述第一照明区域的共轭区域；以及

在所述第二时间段期间打开和关闭所述掩模的所述第二照明区域或所述第二照明区域的共轭区域。

4.根据权利要求2所述的曝光方法，其中

用于将所述正像投影到所述衬底上的第一投影光学路径和用于将所述倒像投影到所述衬底上的第二投影光学路径在所述掩模侧具有共同的光学路径；以及

所述曝光方法包括：在所述第一时间段期间的所述衬底的曝光结束之后并且在所述第二时间段期间的所述衬底的曝光开始之前这段时间，将所述第一投影光学路径切换为所述第二投影光学路径。

5.根据权利要求1至4中任何一项所述的曝光方法，其中，

所述掩模的所述第一图案和所述第二图案被布置为在与所述第一方向相交的方向上移位；以及

所述曝光方法包括：在所述第一时间段与所述第二时间段之间，在所述与所述第一方向相交的方向上移动所述掩模。

6.根据权利要求1至5中任何一项所述的曝光方法，其中，

所述正像和所述倒像的倍率至少是2x倍率；以及

在与所述第一方向相交的方向上交替地布置所述掩模的所述第一图案和所述第二图案。

7.根据权利要求1至6中任何一项所述的曝光方法，进一步包括：

通过在所述第二方向上移动所述衬底来缠绕所述衬底。

8.根据权利要求1至7中任何一项所述的曝光方法，其中，

所述掩模的所述第一图案与所述第二图案相对于所述第一方向倒置。

9.根据权利要求1至8中任何一项所述的曝光方法，进一步包括：

制备所述掩模，在所述掩模中，所述第一图案与所述第二图案相对于所述第一方向倒置。

10.根据权利要求1至9中任何一项所述的曝光方法，其中，

所述正像包括在与所述第二方向相交的方向上布置的多个图像；以及

所述倒像包括在与所述第二方向相交的方向上布置的多个图像。

11.一种曝光方法，用于经由掩模的图案来曝光衬底，所述曝光方法包括：

在将所述掩模的沿着第一方向向一侧的移动与所述衬底的向第二方向的移动同步的同时，经由所述掩模的第一图案和第一投影光学系统曝光所述衬底的第一区域，其中，所述第一投影光学系统投影相对于所述第二方向的正像；以及

在将所述掩模的沿着所述第一方向向另一侧的移动与所述衬底的向所述第二方向的移动同步的同时，经由所述掩模的第二图案和第二投影光学系统来曝光所述衬底的第二区域，其中，所述第二投影光学系统投影相对于所述第二方向的倒像。

12.根据权利要求11所述的曝光方法，其中，

所述掩模沿着所述第一方向往复运动；以及

所述衬底连续地或间歇地在所述第二方向上移动。

13.根据权利要求11或权利要求12所述的曝光方法，其中，

在所述衬底的所述第一区域的曝光与所述第二区域的曝光之间，在与所述第一方向相交的方向上移动所述掩模。