[发明专利]真空成膜装置以及真空成膜装置的挡板位置检测方法有效
| 申请号： | 201080023988.3 | 申请日： | 2010-06-23 |
| 公开（公告）号： | CN102449188A | 公开（公告）日： | 2012-05-09 |
| 发明（设计）人： | 藤井佳词 | 申请（专利权）人： | 株式会社爱发科 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34;C23C14/54 |
| 代理公司： | 北京德琦知识产权代理有限公司 11018 | 代理人： | 齐葵;王诚华 |
| 地址： | 日本神*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 当进行挡板(21)的位置检测时，从检测器(光传感器)(24)例如照射激光(L)。照射的激光(L)经由腔室(1)的窗(25)到达挡板(21)。然后，由挡板(21)的表面反射并再次射入检测器(24)。检测器(24)检测从该激光(L)的射出到反射光的射入的时间。 | ||
| 搜索关键词： | 真空 装置 以及 挡板 位置 检测 方法 | ||
【主权项】：
一种真空成膜装置，其特征在于，具备：腔室，内部保持真空；工作台，在该腔室内形成，用于放置挡板；靶，与该工作台相对而配置；挡板机构，在所述工作台和所述靶之间插脱自如地形成，并具有用于保持所述挡板的臂；以及检测器，在所述挡板被所述臂保持的状态下，检测所述挡板从保持基准位置的偏移。
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