[发明专利]真空成膜装置以及真空成膜装置的挡板位置检测方法

说明书

技术领域

本发明涉及真空成膜装置以及真空成膜装置的挡板位置检测方法，详细而言，涉及高精度地检测挡板的保持位置的偏移的技术。

背景技术

例如，在基板的被成膜面上形成薄膜的真空成膜装置，为了使作为成膜材料的靶表面洁净化并使成膜特性稳定化，在对成膜目标的基板进行成膜(溅射)的正式工序之前，一般会对伪基板(以下也称为挡板)进行成膜(伪溅射)(例如，参照专利文献1)。

当实施这种伪溅射时，在用于放置被成膜物的工作台上放置挡板并进行溅射。当在该工作台上放置挡板时，使具备保持挡板的臂的挡板机构动作，并使臂转动到与工作台重叠的位置。然后，在工作台上放置挡板。如此，由于工作台被挡板覆盖，因此能够防止在伪溅射时对工作台进行成膜。

专利文献1：特开2003-158175号公报

但是，如果挡板从预先设定的保持基准位置偏移的状态下保持于臂，则当放置在工作台上时，工作台的一部分有可能从该挡板伸出并暴露。如果工作台的一部分从挡板伸出，则当实施伪溅射时，就会存在工作台的暴露部分被成膜，成膜的薄膜飞散等，变为在对目标基板等进行成膜时的杂质等的问题。

挡板从臂的保持基准位置偏移的原因，例如可以举出以下原因：臂整体因重力向前端倾斜，或者因挡板的端部跃上形成于臂的限制挡板的保持位置的限制部件而挡板整体倾斜等。

发明内容

本发明的一方面的目的在于提供一种真空成膜装置，所述装置能够准确地检测伪溅射所使用的挡板的位置偏移，并将挡板放置于工作台上的规定的位置。

另外，本发明的一方面的目的在于提供一种真空成膜装置的挡板位置检测方法，所述方法能够准确地检测伪溅射所使用的挡板在保持该挡板的臂上是否位于保持基准位置。

本发明的一方面所涉及的真空成膜装置的特征在于，具备：腔室，内部保持真空；工作台，在该腔室内形成，用于放置挡板；靶，与该工作台相对而配置；挡板机构，在所述工作台和所述靶之间插脱自如地形成，并具有用于保持所述挡板的臂；以及检测器，在所述挡板被所述臂保持的状态下，检测所述挡板从保持基准位置的偏移。

所述检测器可以是检测向所述挡板照射的光由所述挡板反射的反射光的光传感器。

另外，所述检测器可以是使用固体摄像器件检测所述反射光的强度分布的光传感器。

优选地，所述检测器配置在所述腔室的外部。

优选地，所述检测器配置在形成于所述臂且与所述挡板抵接而支撑的导销的附近。

优选地，所述挡板具有两个以上的厚度不同的部位。

另外，优选地，所述挡板的周缘部的厚度比中心部厚。

此外，本发明的一方面所涉及的真空成膜装置的挡板位置检测方法的特征在于，所述真空成膜装置具备：腔室，内部保持真空；工作台，在该腔室内形成，用于放置挡板；靶，与该工作台相对而配置；挡板机构，在所述工作台和所述靶之间插脱自如地形成，并具有用于保持所述挡板的臂；以及检测器，在所述挡板被所述臂保持的状态下，检测所述挡板从保持基准位置的偏移，

其中，在至少一个以上的位置上测定所述检测器与所述挡板的距离，并检测所述挡板的保持位置的偏移。

根据本发明的一个方面所涉及的真空成膜装置，当进行挡板的位置检测时，从检测器例如照射激光。所照射的激光经由腔室的窗到达挡板。然后，由挡板的表面反射并再次射入检测器。检测器检测从该激光的射出到反射光的射入的时间。

例如，在挡板因往复移动等造成偏移，端部从导销偏离时，挡板相对于水平方向变为倾斜的状态。如果在该状态下从检测器射出激光，则激光再次射入检测器的时间被延长。

检测器通过参照挡板预先位于保持基准位置时的时间，并与测定时的时间进行比较，从而能够确实地检测出挡板偏移到从导销偏离的位置。

而且，通过从腔室外部经由观察窗等进行这样的挡板的位置偏移检测，无需对检测器附加与真空环境下等对应的特别的结构，就能够从常压的外部容易且确实地进行检测。

另外，根据本发明的一个方面所涉及的真空成膜装置的挡板位置检测方法，通过在至少一个以上的位置上测定检测器与挡板的距离，并检测挡板的保持位置的偏移，从而能够容易地检测出挡板的位置偏移方向，且还能够高精度地检测出偏移量。

附图说明

图1是表示本发明的真空成膜装置的侧面剖视图。

图2是表示本发明的真空成膜装置的俯视剖视图。

图3是表示本发明的真空成膜装置的作用的主要部分放大剖视图。

图4是表示本发明的真空成膜装置的其他实施方式的剖视图。